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极光先进雷射株式会社藤井光一获国家专利权

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龙图腾网获悉极光先进雷射株式会社申请的专利曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115023657B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080095276.6,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法是由藤井光一;若林理设计研发完成,并于2020-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。

曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法在说明书摘要公布了:对掩模版照射脉冲激光而对半导体基板进行扫描曝光的曝光系统具有:激光装置,其输出脉冲激光;照明光学系统,其将脉冲激光引导至掩模版;掩模版台;以及处理器,其对来自激光装置的脉冲激光的输出和掩模版台对掩模版的移动进行控制。掩模版包含在与扫描曝光的扫描方向正交的扫描宽度方向上混合排列有多种图案的区域,处理器对激光装置指示目标波长,以输出使与多种图案分别对应的最佳对焦位置的方差最小的波长的脉冲激光。

本发明授权曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法在权利要求书中公布了:1.一种曝光系统,其对掩模版照射脉冲激光而对半导体基板进行扫描曝光,其中,所述曝光系统具有: 激光装置,其输出所述脉冲激光; 照明光学系统,其将所述脉冲激光引导至所述掩模版; 掩模版台,其使所述掩模版移动;以及 处理器,其对来自所述激光装置的所述脉冲激光的输出和所述掩模版台对所述掩模版的移动进行控制, 所述掩模版包含在与所述扫描曝光的扫描方向正交的扫描宽度方向上混合排列有多种图案的区域, 所述处理器对所述激光装置指示所述脉冲激光的目标波长,以输出使与所述多种图案分别对应的最佳对焦位置的方差最小的波长的所述脉冲激光, 在设所述扫描曝光的扫描方向为Y轴方向、设朝向Y轴方向正侧对所述掩模版进行扫描的所述脉冲激光的扫描射束的Y轴方向射束宽度为By宽度的情况下, 所述处理器根据所述掩模版的掩模版图案的信息,求出将所述多种图案的Y轴方向负侧的边界向Y轴方向负侧变更与所述By宽度对应的距离而使所述图案各自的区域扩大后的扩大区域, 所述处理器根据第2文件、扫描场内的所述多种图案的组合、以及所述图案各自的所述扩大区域的位置,求出对所述扫描场进行曝光的所述脉冲激光的各脉冲的目标波长,该第2文件包含将所述多种图案的组合和使与所述多种图案分别对应的所述最佳对焦位置的方差最小的所述脉冲激光的波长关联起来而得到的数据。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人极光先进雷射株式会社,其通讯地址为:日本栃木县;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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