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龙图腾网获悉极光先进雷射株式会社申请的专利曝光系统和电子器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115039033B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080095315.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光系统和电子器件的制造方法是由藤井光一;若林理设计研发完成，并于2020-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本曝光系统和电子器件的制造方法在说明书摘要公布了：本公开的一个观点的曝光系统具有：激光装置，其输出脉冲激光；照明光学系统，其将脉冲激光引导至掩模版；掩模版台；以及处理器，其对来自激光装置的脉冲激光的输出和基于掩模版台的掩模版的移动进行控制。掩模版具有被配置有第1图案的第1区域和被配置有第2图案的第2区域，第1区域和第2区域分别是在相对于脉冲激光的扫描方向正交的扫描宽度方向上连续的区域，第1区域和第2区域在扫描方向上并排地配置。处理器根据第1区域和第2区域的各个区域改变脉冲激光的控制参数的值，对激光装置进行控制，以使其输出与第1区域和第2区域的各个区域对应的脉冲激光。

本发明授权曝光系统和电子器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种曝光系统，其对掩模版照射脉冲激光而对半导体基板进行扫描曝光，其中，所述曝光系统具有： 激光装置，其输出所述脉冲激光； 照明光学系统，其将所述脉冲激光引导至所述掩模版； 掩模版台，其使所述掩模版移动；以及 处理器，其对来自所述激光装置的所述脉冲激光的输出和基于所述掩模版台的所述掩模版的移动进行控制， 所述掩模版具有被配置有第1图案的第1区域和被配置有第2图案的第2区域， 所述第1区域和所述第2区域分别是在相对于所述脉冲激光的扫描方向正交的扫描宽度方向上连续的区域，所述第1区域和所述第2区域在所述扫描方向上并排地配置， 所述处理器根据所述第1区域和所述第2区域的各个区域改变所述脉冲激光的控制参数的值，对所述激光装置进行控制，以使其输出与所述第1区域和所述第2区域的各个区域对应的所述脉冲激光， 在将所述扫描方向设为Y轴方向、将朝向Y轴方向正侧对所述掩模版进行扫描的所述脉冲激光的扫描射束的Y轴方向射束宽度设为By宽度的情况下， 所述处理器根据所述掩模版的掩模版图案的信息，求出将所述第1区域的Y轴方向负侧的边界向Y轴方向负侧变更与所述By宽度对应的距离而使所述第1区域扩大的扩大区域，并求出将与所述第1区域的Y轴方向正侧相邻的所述第2区域的Y轴方向正侧的边界向Y轴方向负侧变更与所述By宽度对应的距离而使所述第2区域缩小的缩小区域， 所述处理器根据所述扩大区域和所述缩小区域的各个区域改变所述脉冲激光的控制参数的值，对所述激光装置进行控制，以使其输出与各个区域对应的所述脉冲激光。

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