日产化学株式会社绪方裕斗获国家专利权
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龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利抗蚀剂下层膜形成用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113544586B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080019762.X，技术领域涉及：G03F7/11；该发明授权抗蚀剂下层膜形成用组合物是由绪方裕斗;德永光;西卷裕和;中岛诚设计研发完成，并于2020-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本抗蚀剂下层膜形成用组合物在说明书摘要公布了：本发明的课题是提供涂布于基板，然后通过将其加热的工序来表现高回流性，即使在高低差基板上也可以平坦地涂布，可以形成平坦化膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是，本发明的抗蚀剂下层膜形成用组合物是下述抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有式1所示的重复结构单元和或式2所示的重复单元的共聚物、和有机溶剂。在式1和式2中，R1表示式3所示的官能团，在式3中，Q1和Q2各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基、＊表示与氧原子的结合端，在式2中，X1表示碳原子数1～50的有机基、i和j各自独立地表示0或1。。
本发明授权抗蚀剂下层膜形成用组合物在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有式1所示的重复结构单元和或式2所示的重复单元的共聚物、和有机溶剂， 在式1和式2中，R1表示式3所示的官能团，在式3中，Q1和Q2各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，＊表示与氧原子的结合端，在式2中，X1表示碳原子数2～20的直链状、支链状或环状的二价烃基，或表示具有至少1个硫原子或氧原子的碳原子数2～20的直链状、支链状或环状的二价有机基，i和j各自独立地表示0或1。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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