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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利用于处理基板的装置和用于处理基板的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114446755B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111294651.2，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法是由金永国;S·阿拉克颜;闵堤泓;赵台勋;具滋明设计研发完成，并于2021-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在说明书摘要公布了：本发明构思提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：处理室，其具有内部处理空间；支撑单元，其在处理空间中支撑基板；气体供应单元，其将处理气体供应至处理空间中；和RF电源，其提供RF信号以将处理气体激发成等离子体状态，其中支撑单元包括：边缘环，其环绕基板；耦合环，其设置在边缘环下方并在其中包括电极；和线缆，其与电极连接，其中将线缆的端部接地。

本发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，包括： 处理室，在所述处理室中具有处理空间； 支撑单元，所述支撑单元用于在所述处理空间中支撑基板； 气体供应单元，所述气体供应单元用于将处理气体供应至所述处理空间中；和 RF电源，所述RF电源用于提供RF信号以将所述处理气体激发成等离子体状态， 其中所述支撑单元包括： 边缘环，所述边缘环环绕所述基板； 耦合环，所述耦合环设置在所述边缘环下方并在其中包括电极； 线缆，所述线缆的一端与所述电极连接，相反端接地；和 电路单元，所述电路单元连接在所述线缆和地面之间， 其中所述电路单元包括： 第一阻抗控制电路，其用于控制所述基板的边缘区域处的鞘层电压；和 第二阻抗控制电路，其用于控制谐波分量， 其中所述线缆的长度基于Zin=jZotanβl来设置，使得对于所述RF电源在所述处理室中产生的谐波中100MHz或更高频率的谐波分量具有50Ω到1000Ω的低阻抗，同时对于所述RF电源的基频具有大于所述低阻抗的高阻抗以抑制由所述RF电源施加的所述RF信号通过所述线缆的损耗，其中Zin是所述线缆的阻抗，Zo是所述线缆的特性阻抗，l是所述线缆的长度，β是传播常数，其中β=2πfcη，其中f是频率，c是真空中的传播速度，η是由所述线缆的特性决定的速度因子， 其中所述第一阻抗控制电路控制所述基板的所述边缘区域处的离子倾斜以调节所述基板的所述边缘区域中的蚀刻速率，并且 其中所述第二阻抗控制电路与所述线缆一同通过谐波控制来控制等离子体密度并调节所述基板的中心区域中的蚀刻速率。

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