门布里翁有限公司格雷戈里·马修·纽布卢姆获国家专利权
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龙图腾网获悉门布里翁有限公司申请的专利陶瓷阴离子交换材料获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114502264B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080048352.8，技术领域涉及：B01D71/02；该发明授权陶瓷阴离子交换材料是由格雷戈里·马修·纽布卢姆;奥利维娅·玛丽·伦茨;菲利普·里夫斯·皮克特;拉谢尔·亚历克西斯·马隆;斯特凡妮·林恩·坎德拉里亚;张毅恒;凯瑟琳·林恩·科尔普;阿迪蒂亚·阿肖克·萨伦基设计研发完成，并于2020-06-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本陶瓷阴离子交换材料在说明书摘要公布了：提供了包含基于二氧化硅的陶瓷的阴离子交换膜和阴离子交换材料，以及相关方法。在一些方面中，描述了阴离子交换膜，其包含在多孔支撑膜上和或在多孔支撑膜内形成涂层的基于二氧化硅的陶瓷。阴离子交换膜和阴离子交换材料可以具有某些结构或化学属性例如，孔尺寸分布、化学官能化，其单独或组合可以在期望使带正电荷的离子选择性传输通过膜材料的各种应用的任意者中产生有利的性能特性。在一些实施方案中，基于二氧化硅的陶瓷包含可以有助于一些这样的有利特性的相对小的孔例如，基本上为球形的纳米孔。在一些实施方案中，阴离子交换膜或阴离子交换材料包含与基于二氧化硅的陶瓷共价键合的季铵基团。
本发明授权陶瓷阴离子交换材料在权利要求书中公布了：1.一种阴离子交换膜，包括： 多孔支撑膜；和 基于二氧化硅的陶瓷，所述基于二氧化硅的陶瓷涂覆至少一部分的所述多孔支撑膜，其中所述基于二氧化硅的陶瓷包含与所述基于二氧化硅的陶瓷共价键合的季铵基团，以及其中所述基于二氧化硅的陶瓷的平均孔径小于或等于10nm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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