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龙图腾网获悉中芯南方集成电路制造有限公司申请的专利套刻偏差的测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114609090B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011424765.X，技术领域涉及：G01N21/47；该发明授权套刻偏差的测量方法是由张海;杨晓松;吴怡旻设计研发完成，并于2020-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本套刻偏差的测量方法在说明书摘要公布了：一种套刻偏差的测量方法，包括：提供第一批次晶圆，第一批次晶圆中包括若干第一测量点；采用第一波长光源对第一批次晶圆进行测量，获取第一测量值组；采用第二波长光源对第一批次晶圆进行测量，获取第二测量值组；获取第二测量值组与第一测量值组之间的偏差值组；提供第二批次晶圆，第二批次晶圆中包括若干第二测量点；采用第一波长光源对第二批次晶圆进行测量，获取第三测量值组；将第三测量值组与偏差值组相加，获取第四测量值组。使得第二批次晶圆在具有高测量效率的同时，测量精度也有效提升。

本发明授权套刻偏差的测量方法在权利要求书中公布了：1.一种套刻偏差的测量方法，其特征在于，包括： 提供第一批次晶圆，所述第一批次晶圆中包括若干第一测量点； 采用第一波长光源对所述第一批次晶圆进行测量，获取第一测量值组，所述第一测量值组中包括若干与所述第一测量点对应的第一测量值； 采用第二波长光源对所述第一批次晶圆进行测量，获取第二测量值组，所述第二测量值组中包括若干与所述第一测量点对应的第二测量值； 获取所述第二测量值组与所述第一测量值组之间的偏差值组，所述偏差值组中包括若干与所述第一测量点对应的偏差值； 提供第二批次晶圆，所述第二批次晶圆中包括若干与所述第一测量点对应的第二测量点； 采用所述第一波长光源对所述第二批次晶圆进行测量，获取第三测量值组，所述第三测量值组中包括若干与所述第二测量点对应的第三测量值； 将所述第三测量值组与所述偏差值组相加，获取第四测量值组，所述第四测量值组中包括若干与所述第二测量点对应的第四测量值；其中， 所述第一波长光源包括：单波长光源或双波长光源； 所述第二波长光源包括：多波长光源，所述多波长光源中的波长数量为n，且n≥3。

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