细美事有限公司O·嘉尔斯蒂安获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利基板处理设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114695057B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111628152.2,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权基板处理设备是由O·嘉尔斯蒂安;李赫真;金荣斌;奉允根;安宗焕设计研发完成,并于2021-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理设备在说明书摘要公布了:本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括:腔室,在所述腔室中具有处理空间;基板支撑单元,所述基板支撑单元在所述处理空间中支撑基板;气体供应单元,所述气体供应单元将气体供应到所述处理空间中;以及等离子体产生单元,所述等离子体产生单元将所述处理空间内的所述气体激发成等离子体状态,其中所述等离子体产生单元包括:RF电源,所述RF电源供应RF信号;以及第一天线和第二天线,所述第一天线和第二天线被供以所述RF信号以从供应到所述处理空间内的所述气体产生所述等离子体,并且其中所述第一天线设置在所述第二天线的内侧,并且其中所述第二天线中包括的线圈的总高度高于所述第一天线中包括的线圈的总高度。
本发明授权基板处理设备在权利要求书中公布了:1.一种基板处理设备,包括: 腔室,所述腔室包括其中具有处理空间的主体和密封所述主体的开放顶表面的电介质窗口; 基板支撑单元,所述基板支撑单元在所述处理空间中支撑基板; 气体供应单元,所述气体供应单元将气体供应到所述处理空间中;以及 等离子体产生单元,所述等离子体产生单元将所述处理空间内的所述气体激发成等离子体状态, 其中所述等离子体产生单元包括: RF电源,所述RF电源供应RF信号;以及 第一天线和第二天线,所述第一天线和第二天线被供以所述RF信号以从供应到所述处理空间内的所述气体产生所述等离子体,并且 其中所述第一天线设置在所述第二天线的内侧, 其中所述第一天线中包括的线圈以双堆叠结构设置,所述双堆叠结构具有不同直径的两种线圈,并且具有相同直径的线圈彼此堆叠或设置为螺旋形状且设置成在从上方观看时彼此重叠, 其中所述第二天线设置有单个堆叠结构中的多个线圈,并且所述第二天线的所述多个线圈具有相同的直径并且设置成在从上方观看时彼此重叠, 其中相对于所述电介质窗口,所述第二天线中包括的所述线圈的总高度高于所述第一天线中包括的所述线圈的总高度,并且 其中所述第一天线与所述第二天线以使所述第一天线中包括的所述线圈与所述第二天线中包括的所述线圈之间的互耦减小的距离设置。
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