ASML荷兰有限公司S·A·米德莱布鲁克斯获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用参数化模型预测过程信息的方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114766012B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080082760.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用参数化模型预测过程信息的方法和系统是由S·A·米德莱布鲁克斯;帕特里克·沃纳阿;P·P·赫芬斯坦;A·P·康宁贝格;M·皮萨连科;M·G·M·M·范卡拉埃吉设计研发完成，并于2020-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本用参数化模型预测过程信息的方法和系统在说明书摘要公布了：描述了用于用参数化模型预测复电场图像的方法和系统。针对至所述参数化模型的给定输入，基于所述参数化模型的潜在空间中的维度数据来确定复电场图像的潜在空间表示。所述给定输入可以是与所述复电场图像相关联的测量的振幅例如强度。基于所述复电场图像的所述潜在空间表示来预测所述复电场图像。所预测的复电场图像包括振幅和相位。所述参数化模型包括编码器‑解码器架构。在一些实施例中，确定所述电场图像的所述潜在空间表示包括最小化受电场图像的集合约束的函数，所述电场图像的集合可以通过所述参数化模型基于所述潜在空间中的所述维度数据和所述给定输入来被预测。
本发明授权用参数化模型预测过程信息的方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种用于确定用于半导体制造过程的一个或更多个量测指标的方法，所述方法包括： 基于参数化模型的潜在空间中的维度数据来确定给定输入的电场图像的潜在空间表示； 用所述参数化模型基于所述电场图像的所述潜在空间表示来预测所述电场图像；以及 基于所预测的电场图像来确定用于所述半导体制造过程的所述一个或更多个量测指标。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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