应用材料公司克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于消除电弧及改善PVD处理的均匀气体分布的气体注入处理套件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114945704B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180009414.9，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权用于消除电弧及改善PVD处理的均匀气体分布的气体注入处理套件是由克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚;谢恩·拉万;S·R·V·雷迪;兰德尔·迪恩·施米丁;曹勇设计研发完成，并于2021-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于消除电弧及改善PVD处理的均匀气体分布的气体注入处理套件在说明书摘要公布了：本文提供使用于处理腔室中的处理屏蔽件的实施方式。在一些实施方式中，使用于处理腔室中的处理屏蔽件包括：环状主体，该环状主体具有上部分及下部分，该下部分从该上部分向下且径向向内延伸，其中该上部分在该上部分的上表面上包括多个环状凹槽，且具有设置于该多个环状凹槽之间的多个插槽，以流体地连接该多个环状凹槽，其中一个或多个入口从该环状主体的外表面延伸至该多个环状凹槽的最外凹槽。
本发明授权用于消除电弧及改善PVD处理的均匀气体分布的气体注入处理套件在权利要求书中公布了：1.一种使用于处理腔室中的处理屏蔽件，包括： 环状主体，所述环状主体具有上部分及下部分，所述下部分从所述上部分向下且径向向内延伸，其中所述上部分在所述上部分的上表面上包括多个凹槽，且具有设置于所述多个凹槽之间的多个插槽，以流体地连接所述多个凹槽，其中一个或多个入口从所述环状主体的外表面延伸至所述多个凹槽的最外凹槽，并且其中所述环状主体的所述上表面包括凹部以容纳隔离器环，并且所述多个凹槽从所述凹部的下表面向下延伸。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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