乳源县立东电子科技有限公司刘俊英获国家专利权
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龙图腾网获悉乳源县立东电子科技有限公司申请的专利一种低压硬态腐蚀箔的扩孔腐蚀方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115558979B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211144509.4，技术领域涉及：C25F3/04；该发明授权一种低压硬态腐蚀箔的扩孔腐蚀方法和应用是由刘俊英;冉亮;杨海亮设计研发完成，并于2022-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低压硬态腐蚀箔的扩孔腐蚀方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低压硬态腐蚀箔的扩孔腐蚀方法和应用，该低压硬态腐蚀箔的扩孔腐蚀方法为将铝光箔放入扩孔腐蚀液中后进行5次电化学腐蚀，每一次都对电流密度、电源频率和腐蚀作用时间进行相应的调整，其中，电流密度的数值呈现先增大后减小的峰形变化，而电源频率则呈现逐渐降低的梯度变化。本发明在铝光箔进行扩孔腐蚀阶段时，通过调整电流密度和电源频率，得到了具有较深腐蚀层厚度和较大腐蚀孔洞尺寸的低压硬态腐蚀箔，不会产生并孔现象，提高了腐蚀孔洞的有效性，也提高了低压大于80Vf硬态电极箔的比容和裁切宽度性能，进而提高铝电解电容器的容量，而且解决了电极箔腐蚀层深度不均匀的问题，电极箔芯层也保持厚度均匀。
本发明授权一种低压硬态腐蚀箔的扩孔腐蚀方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种低压硬态腐蚀箔的扩孔腐蚀方法，其特征在于，包括以下步骤： 将铝光箔放入扩孔腐蚀液中，然后依次进行如下步骤： 1在电流密度0.04~0.10Acm2、电源频率50Hz下，腐蚀作用2min； 2在电流密度0.10~0.18Acm2、电源频率50Hz下，腐蚀作用2min； 3在电流密度0.20~0.26Acm2、电源频率50Hz下，腐蚀作用3min； 4在电流密度0.16~0.22Acm2、电源频率25~45Hz下，腐蚀作用3min； 5在电流密度0.13~0.18Acm2、电源频率15~35Hz下，腐蚀作用3min； 其中，所述步骤1-5的电流密度呈现先增大后减小的峰形变化。
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