株式会社堀场制作所涩谷享司获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社堀场制作所申请的专利分析装置、记录介质及分析方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115667884B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180036191.5,技术领域涉及:G01N21/39;该发明授权分析装置、记录介质及分析方法是由涩谷享司设计研发完成,并于2021-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本分析装置、记录介质及分析方法在说明书摘要公布了:本发明提供分析装置、记录介质及分析方法,分析装置100修正由于共存成分引起的共存影响或者参照光的波长偏移而产生的测量对象成分的光吸收光谱的变化,高精度地测量测量对象成分的浓度,对试样中包含的测量对象成分进行分析,其具备:光源2,对试样射出参照光;光检测器3,检测参照光透过了试样后的试样光的强度;参数确定部64、66,确定表示由于试样中包含的共存成分或者参照光的波长偏移而产生的测量对象成分或者干扰成分的光吸收光谱的变化的参数;以及浓度计算部65,根据与试样光的强度关联的强度关联信号,计算使用表示光吸收光谱的变化的参数修正后的测量对象成分的浓度。
本发明授权分析装置、记录介质及分析方法在权利要求书中公布了:1.一种分析装置,其特征在于, 所述分析装置对包含一个或者多个干扰成分的试样中包含的测量对象成分进行分析, 所述分析装置具备: 光源,对所述试样照射参照光; 光检测器,检测所述参照光透过所述试样后的试样光的强度; 参数确定部,确定表示由于所述试样中包含的共存成分或者所述参照光的波长偏移而产生的所述测量对象成分或者干扰成分的光吸收光谱的变化的参数; 相关值计算部,计算和所述试样光的强度关联的强度关联信号与规定的特征信号的相关值,所述相关值计算部使用将所述测量对象成分的种类数与所述干扰成分的种类数相加得到的个数以上的个数的特征信号,计算多个相关值; 存储部,所述存储部存储单独相关值,所述单独相关值是根据所述测量对象成分以及各干扰成分单独存在时的各自的所述强度关联信号以及多个所述特征信号求出的所述测量对象成分以及各干扰成分各自的每单位浓度的相关值;以及 浓度计算部,使用通过所述相关值计算部得到的所述多个相关值、多个所述单独相关值、以及表示所述测量对象成分或者干扰成分的光吸收光谱的变化的参数,计算将所述共存成分引起的共存影响或者所述参照光的波长偏移修正后的所述测量对象成分的浓度。
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