株式会社LG化学金正云获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社LG化学申请的专利光学装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115769136B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180042060.8，技术领域涉及：G02F1/1335；该发明授权光学装置是由金正云;吴东炫;柳正善;金真弘;金旼俊设计研发完成，并于2021-07-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学装置在说明书摘要公布了：本申请涉及光学装置。本申请的光学装置可以通过适当地保持液晶元件膜的单元间隙，通过在上基底与下基底之间具有优异的附接力，并且通过使在外基底的粘合过程中诸如挤压或集聚的缺陷最小化来确保结构稳定性和良好的品质均匀性。
本发明授权光学装置在权利要求书中公布了：1.一种光学装置，包括： 第一外基底； 设置成面向所述第一外基底的第二外基底； 定位在所述第一外基底与所述第二外基底之间的液晶元件膜；和 分别定位在所述第一外基底与所述液晶元件膜之间和所述液晶元件膜与所述第二外基底之间的中间层； 其中所述液晶元件膜包括第一基础层；设置成面向所述第一基础层的第二基础层；定位在所述第一基础层与所述第二基础层之间的液晶层；用于保持所述第一基础层与所述第二基础层之间的距离的图案化间隔物；定位在所述第一基础层的面向所述液晶层的表面上和所述第二基础层的面向所述液晶层的表面上的导电层；以及定位在位于所述第一基础层的面向所述液晶层的表面上的所述导电层与所述液晶层之间的压敏粘合剂层，其中所述压敏粘合剂层的储能模量为10MPa或更小，其中所述中间层的总厚度之和为1,600μm或更大。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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