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龙图腾网获悉杭州怡莱珂科技有限公司申请的专利一种原位微孔聚合物膜、制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116272415B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310249151.X，技术领域涉及：B01D69/12；该发明授权一种原位微孔聚合物膜、制备方法及其应用是由叶瑛;杜昊;张平萍设计研发完成，并于2023-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种原位微孔聚合物膜、制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种原位微孔聚合物膜、制备方法及其应用。这种高分子聚合物膜中均匀分布了尺寸可控的穿透性微孔，包覆在物体表面起绝缘保护作用，同时允许物体中的组分透过膜材料与介质交换。在制备方法上，先将成膜剂溶液涂覆在被保护的物体上，待溶液蒸发浓缩后，将物体连同半固化膜浸入第二溶剂，是此前残留的溶剂被萃取分离，从而形成微孔膜。通过调节成膜剂在物体表面蒸发浓缩条件及比例，即可达到微孔膜孔隙度和孔径的目的。和传统的膜材料相比，原位微孔膜制做简便，制备成本和使用成本低，具有性价比优势。原位微孔聚合物膜适合于用作充电式离子电池正负极之间的隔膜，以及探测电极的保护膜。

本发明授权一种原位微孔聚合物膜、制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种原位微孔聚合物膜的制备方法，其特征在于它的步骤如下： 1将聚合物粉体加入第一溶剂中，搅拌至完全溶解后得到浓度为3%至8%的聚合物溶液； 2将聚合物溶液均匀涂覆在需要进行绝缘保护的目标物体表面，然后将目标物体放入烘箱中，在温度为0.3T1~0.6T1的环境中恒温10至20分钟，使第一溶剂部分蒸发，从而在目标物体表面原位包覆形成带有微孔的聚合物半固化膜；所述T1为以摄氏度计算的第一溶剂沸点；且所述第一溶剂是沸点T1高于120°C的有机溶剂，聚合物在其中的溶解度不低于8%，第一溶剂对于目标物体表面具有湿润性但对目标物体不具有溶解性、腐蚀性以及化学反应活性； 3将包覆有聚合物半固化膜的目标物体浸入第二溶剂中10至30分钟以萃取膜中残存的第一溶剂，取出后在温度为0.5T2~0.8T2的环境中蒸干第二溶剂，在物体表面原位形成带有微孔的聚合物膜；所述T2为以摄氏度计算的第二溶剂沸点；且所述第二溶剂是沸点低于所述聚合物软化点的有机溶剂或水，它与第一溶剂能以无限比例互溶，且对所述聚合物及目标物体不具有溶解性、腐蚀性以及化学反应活性。

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