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龙图腾网获悉杭州电子科技大学;大连理工大学申请的专利一种微谐振子的光催化流体能场抛光装置及抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116922251B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310906121.1，技术领域涉及：B24B31/00；该发明授权一种微谐振子的光催化流体能场抛光装置及抛光方法是由石春景;张振宇;周红秀;孟凡宁;冯俊元设计研发完成，并于2023-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种微谐振子的光催化流体能场抛光装置及抛光方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种微谐振子的光催化流体能场抛光装置及抛光方法，包括机床和设置在机床上的主轴系统、控制系统、磁场系统和光催化系统，所述主轴系统的输出端与固定谐振子装置盘相连，固定谐振子装置盘上设置有若干用于夹持待抛光工件的封闭透光核壳体，所述封闭透光核壳体中设置有带有磁性磨粒的抛光液，加工过程中，所述封闭透光核壳体内部形成电磁场，所述光催化系统设置于主轴系统上方空间内，其用于通过光催化作用协助待抛光工件的抛光。本发明成功解决了微谐振子内外球面抛光效率低、表面质量差的技术难题，实现了微谐振子的超精密抛光。

本发明授权一种微谐振子的光催化流体能场抛光装置及抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种微谐振子的光催化流体能场抛光装置，其特征在于，包括机床和设置在机床上的主轴系统、控制系统、磁场系统和光催化系统，所述主轴系统的输出端与固定谐振子装置盘相连，固定谐振子装置盘上设置有若干用于夹持待抛光工件的封闭透光核壳体，所述封闭透光核壳体中设置有带有磁性磨粒的抛光液，加工过程中，所述封闭透光核壳体内部形成电磁场，所述光催化系统设置于主轴系统上方空间内，其用于通过光催化作用协助待抛光工件的抛光； 装置针对熔融石英薄壁硬脆微复杂结构谐振子，每个硅原子由4个氧原子包围，4个氧原子分别位于四面体的4个顶点， 其中，光催化系统为全波段500w氙灯光源，光催化系统能发射不同波段的光，照射在舱体内部，舱体盖由透光的石英制成，BiVO4、MoO3、5-氨基酮戊酸、间-四羟基苯基二氢卟酚、初卟啉锡、亚甲基兰和亚甲苯兰、苯卟啉衍生物以及luteliumtexaphyrins、苯并卟啉衍生物单酸组成的抛光液在光的激发下，含有丰富的活性位点，光电子和空穴附着在磨粒的表面，改变磨粒的吸附能、表面能、结合能，此时磨粒与石英表面出现键合键，Si-O键被拉长，O会偏离原位置而出现极性状态，Si-O断裂键在应力光催化、自由基化、离子化的作用下，降低其活化能发生断裂，促进Si-O键断开及增强磨粒与Si-O键之间的结合力。

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