南京工业大学李旸获国家专利权
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龙图腾网获悉南京工业大学申请的专利一种具有多模式红外防伪效果的温敏多层膜结构的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117107197B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310942447.X，技术领域涉及：C23C14/26；该发明授权一种具有多模式红外防伪效果的温敏多层膜结构的制备方法是由李旸;戴安琪;陆春华;寇佳慧;倪亚茹设计研发完成，并于2023-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有多模式红外防伪效果的温敏多层膜结构的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种具有多模式红外防伪效果的温敏多层膜结构的制备方法，具体步骤如下：将硅片衬底洗净后用吹干；在硅片衬底层上沉积Al作为金属高反射层；然后在金属高反层上沉积Si作为间隔层并退火处理；再在间隔层上沉积V2O5作为相变材料层，并退火处理；最后在结构表面上根据图案需要沉积不同厚度的Al构成的的Al顶层图案层，获得温敏多层膜。本发明的温敏多层膜能够根据温度自行调节热发射图案，无需荧光激发，且不易洗脱。本发明针对相变材料层的过渡态也设计了防伪图案，构建了多种模式的防伪效果，增强伪装效果。本发明的制备工艺简单，无需进行刻蚀等微纳加工，成本低，适合批量应用，在防伪加密和隐身领域均具有广泛的应用前景。
本发明授权一种具有多模式红外防伪效果的温敏多层膜结构的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有多模式红外防伪效果的温敏多层膜结构的制备方法，其具体步骤如下： S1：将硅片衬底用HF浸泡后，用去离子水洗净后用氮气枪吹干； S2：在步骤S1中的硅片衬底层上通过电阻蒸镀沉积Al作为金属高反射层； S3：在步骤S2中的金属高反层上通过电子束蒸镀沉积Si作为间隔层，并通过退火处理； S4：在步骤S3中的间隔层上通过电子束蒸镀沉积V2O5作为相变材料层，并通过退火处理，V2O5转化为VO2； S5：在步骤S4中的结构表面上根据图案需要，沉积2-20nm厚度的Al构成的Al顶层图案层。
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