BENEQ有限公司约翰尼斯·韦斯林获国家专利权
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龙图腾网获悉BENEQ有限公司申请的专利一种原子层沉积装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117157425B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280025539.5，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种原子层沉积装置是由约翰尼斯·韦斯林;佩卡·索恩宁;乔纳斯·安德森设计研发完成，并于2022-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种原子层沉积装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种原子层沉积装置，所述原子层沉积装置具有反应室1和固定气体歧管组件3，所述反应室1设置在真空室内，所述固定气体歧管组件3固定设置在所述原子层沉积装置中并且被设置成从所述真空室外部向所述反应室1供应气体。所述反应室1是可移动反应室1，所述可移动反应室1被设置成可相对于所述真空室和所述固定气体歧管组件3移动。所述原子层沉积装置还包括连接装置4，所述连接装置4将所述可移动反应室1耦接到所述固定气体歧管组件3。所述连接装置4包括：柔性外凸缘组件5，围绕所述固定气体歧管组件3；以及第一连接面6，连接到所述反应室1的第二连接面11。
本发明授权一种原子层沉积装置在权利要求书中公布了：1.一种原子层沉积装置，所述原子层沉积装置具有反应室1和固定气体歧管组件3，所述反应室1设置在真空室内，所述固定气体歧管组件3固定设置在所述原子层沉积装置中并且被设置成从所述真空室外部向所述反应室1供应气体，其特征在于，所述反应室1是可移动反应室1，所述可移动反应室1被设置成可相对于所述真空室和所述固定气体歧管组件3移动，所述原子层沉积装置还包括： 连接装置4，其将所述可移动反应室1耦接到所述固定气体歧管组件3，所述连接装置4包括： -柔性外凸缘组件5，围绕所述固定气体歧管组件3；以及 -第一连接面6，连接到所述反应室1的第二连接面11， 所述柔性外凸缘组件5包括： 第一连接部51，具有所述第一连接面6； 第二连接部52，附接到所述固定气体歧管组件3；以及 柔性连接部53，将所述第一连接部51和所述第二连接部52连接在一起，使得所述第一连接部51可相对于所述第二连接部52移动， 所述柔性连接部53提供所述第一连接面6相对于所述第二连接面11的上下移动。
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