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龙图腾网获悉浙江理工大学申请的专利基于双电光频率梳的激光跟踪干涉空间坐标测量系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118362046B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410631580.8，技术领域涉及：G01B11/00；该发明授权基于双电光频率梳的激光跟踪干涉空间坐标测量系统和方法是由陈本永;严利平;谢建东;楼盈天设计研发完成，并于2024-05-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于双电光频率梳的激光跟踪干涉空间坐标测量系统和方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于双电光频率梳的激光跟踪干涉空间坐标测量系统和方法。通过视觉模块进行多靶镜识别，引导转镜将激光分别指向各靶镜。激光跟踪干涉测距模块获得激光光束偏离靶镜中心的跟踪误差，用于闭环跟踪控制；光源模块输出溯源至气体吸收峰的单频激光；通过控制光源调制模块开启或关闭电光相位调制驱动信号，分别输出双电光频率梳与双频连续激光。跟踪状态下，激光跟踪干涉测距模块分别使用这两种光源测得目标靶镜的绝对距离与相对位移，经距离融合计算求得靶镜与原点的实时距离；通过方位角与俯仰角测量模块实时获得靶镜的俯仰角与方位角；经跟踪控制与信号处理模块以及计算机进行跟踪控制与坐标解算，最终测得所有靶镜的三维空间坐标。

本发明授权基于双电光频率梳的激光跟踪干涉空间坐标测量系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种基于双电光频率梳的激光跟踪干涉空间坐标测量系统，其特征在于： 分为精密光学跟踪单元、基于双电光频率梳的测距单元、电控单元的三部分；精密光学跟踪单元一部分安装在框架机身3上，另一部分安装在待测物或待测空间上，测距单元安装在框架机身3内，电控单元分别和精密光学跟踪单元、测距单元电连接，电控单元控制基于双电光频率梳的测距单元发出双电光频率梳的光束经精密光学跟踪单元反射调整入射到待测物或待测空间进而接收进行待测物或待测空间的空间坐标测量； 所述的精密光学跟踪单元主要包括靶镜组1、转镜4、俯仰力矩电机5、视觉模块7、俯仰角测量模块8、方位力矩电机10和方位角测量模块11；靶镜组1布置在待测物上或待测空间中；方位力矩电机10安装在框架机身3上端，方位力矩电机10旋转端上通过支架安装有水平且相平行的转镜轴和视觉轴，同时方位力矩电机10旋转端设有用于检测旋转角度的方位角测量模块11；转镜轴的一端和俯仰力矩电机5的旋转端同轴固定连接，转镜轴的另一端和用于测量转镜轴旋转角度的俯仰角测量模块8连接，转镜上固定安装有转镜4；视觉轴通过齿轮组6可旋转地安装在支架上，视觉轴上固定安装有视觉模块7； 所述基于双电光频率梳的测距单元包括依次从下向上布置的光束调节模块12、激光跟踪干涉测距模块13、光源调制模块14和光源模块15； 光源模块15输出溯源至气体吸收峰的单频激光，单频激光通过保偏光纤传输至光源调制模块14进行电光相位调制后产生双电光频率梳，双电光频率梳传输至激光跟踪干涉测距模块13，激光跟踪干涉测距模块13输出测量光传输至光束调节模块12，由光束调节模块12将测量光扩束准直后、再经平移与偏转控制调节，使得测量光入射至转镜4中心，经转镜4反射后入射到待测物或待测空间的靶镜组1上，经靶镜组1反射后返回激光跟踪干涉测距模块13； 控制光源调制模块14的开启和关闭的调制，进而通过激光跟踪干涉测距模块13分别在绝对测距模式和相对位移模式下测量获得绝对距离和相对位移。

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