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龙图腾网获悉中国海洋大学申请的专利一种水相大规模剥离制备过渡金属二硫属化物单层的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118929764B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411131403.X，技术领域涉及：C01G47/00；该发明授权一种水相大规模剥离制备过渡金属二硫属化物单层的方法是由田维乾;隋晓燕;刘孟宇;李庆辰设计研发完成，并于2024-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种水相大规模剥离制备过渡金属二硫属化物单层的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种水相大规模剥离制备过渡金属二硫属化物单层的方法，属于新材料制备技术领域。本发明可以在液体剥离过程中不使用任何化学添加剂的情况下，在水中对宽范围的TMDs进行大规模分层；使用探头超声空化机械剥离将预插层的TMD相在水中分层，以产生各种TMD单层。本发明使用水作为溶剂，成本低廉，不使用任何添加剂，不会出现加入的添加剂会附着在TMD薄片的表面进而会影响其整体性能的问题。本发明制得TMD单片收率高，能够大规模制备，且浓度高，高稳定性。本发明制备的二维TMD可以与一系列功能材料混合结合成二维多功能异质结构，在高浓度下能够形成稳定的胶体分散体，为组装各种多功能复合材料提供了一个多功能平台。

本发明授权一种水相大规模剥离制备过渡金属二硫属化物单层的方法在权利要求书中公布了：1.一种水相大规模剥离制备过渡金属二硫属化物单层分散液的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： 1将TMD晶体粉末浸渍在正丁基锂己烷类溶液中预插层，反应条件是在水、氧含量均小于0.1ppm条件下，预插层反应时间为3-5天，并不断进行磁力搅拌，全程在充满惰性气体中进行； 2预插层完成后，对溶液进行过滤并洗涤，在充满惰性气体中进行，使用烷烃类有机溶剂进行洗涤，回收锂插层的TMD晶体，得到锂预插层的层状TMD晶体； 3将所述锂预插层的层状TMD晶体浸入到脱氧去离子水中并在冰浴条件下进行超声，超声功率为220-260W，时间为30-35min，洗出预插层的锂离子； 4去离子水洗涤，再离心分离制得层间水分子膨胀的TMD粘土状多层结构；使用去离子水洗涤充分去除预插层的锂离子，同时让水分子进一步插层剥离TMD多层，离心条件为：4000-5000rpm转速，分离2-30min； 5将所述TMD粘土状多层，再分散到脱氧去离子水中，在冰浴条件下使用探头超声对其剥离，探头超声剥离时间为30-35min，功率为250-300W； 6最后再进行离心分离，离心后仅取上清液体积作为过渡金属二硫属化物单层胶体分散液；所述步骤6中，离心条件为3000-4000rpm转速离心分离20-25min，离心后仅取上清液体积的34为最佳。

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