华海清科股份有限公司杨易获国家专利权
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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利抛光头、抛光设备、抛光方法、处理器及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119260586B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411538305.8，技术领域涉及：B24B37/04；该发明授权抛光头、抛光设备、抛光方法、处理器及存储介质是由杨易;刘鑫博;程子政;李润豪设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光头、抛光设备、抛光方法、处理器及存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种抛光头、抛光设备、抛光方法、处理器及存储介质。其中抛光头包括：基座；保持环，设置于基座下方；抛光头气膜，设置于基座且置于保持环内侧，用于固持晶圆；保持环气膜，设置于保持环内侧且置于保持环和抛光头气膜之间，保持环气膜加压膨胀时与晶圆的边缘相接触，以对晶圆的边缘施加作用力，作用力在晶圆的边缘形成径向夹紧力和轴向下压力。本申请通过保持环气膜对晶圆的边缘施加径向夹紧力和轴向下压力，该径向夹紧力可夹持晶圆，防止晶圆在抛光过程中移动，减低了滑片的风险；该轴向下压力可在晶圆抛光过程中对晶圆的边缘施加压紧力，可以更精准地控制晶圆边缘的抛光效果，保证了整个晶圆表面的抛光一致性。
本发明授权抛光头、抛光设备、抛光方法、处理器及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种抛光头，用于将晶圆抵压至抛光垫进行抛光处理，其特征在于，包括： 基座； 保持环，设置于基座下方； 抛光头气膜，设置于基座且置于保持环内侧，用于固持晶圆； 保持环气膜，设置于保持环内侧且置于保持环和抛光头气膜之间，所述保持环气膜加压膨胀时与晶圆的边缘相接触，以对晶圆的边缘施加作用力，所述作用力在晶圆的边缘形成径向夹紧力和轴向下压力； 所述保持环气膜包括： 环形气囊，设置有充气接口，用于与充气装置相连接； 环形内支撑体，贴设于环形气囊靠近抛光头气膜的部分内侧表面，以将环形气囊的内侧撑起，进而避免与抛光头气膜相接触； 所述环形气囊的内侧表面形成有第一凹设部，所述环形内支撑体设置于第一凹设部内；所述抛光头气膜在向着保持环气膜的外侧表面设置有环形支撑体；所述环形内支撑体与环形支撑体对应设置且具有间隙。
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