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龙图腾网获悉北京市科学技术研究院申请的专利一种Cr/CrN/WC/C纳米涂层及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119287325B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411405481.4，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种Cr/CrN/WC/C纳米涂层及其制备方法和应用是由欧伊翔;酆毅;王浩琦;吴小盼;候莉;王连才设计研发完成，并于2024-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种Cr/CrN/WC/C纳米涂层及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于精加工技术领域，提供了一种CrCrNWCC纳米涂层及其制备方法和应用，该纳米涂层为高强韧性无氢碳基纳米涂层。其中，结合力层为金属Cr层，选用耐温的Cr作为结合力层，厚度控制在200～500nm，在保证优异结合性能的前提下，实现宽温域结合强度设计。CrN作为梯度过渡层，厚度控制在300～500nm，采用高功率磁控溅射离子增强复合沉积技术可以在Cr结合力层上连续的生长致密的CrN，同时力学性能保持梯度的升高，结构上能保持连续致密的生长，抗氧化的性能比Cr层要好。WC层为涂层的高强韧性层，厚度控制在600～1500nm，能提升整个涂层的强韧性；C层发挥机械润滑作用。

本发明授权一种Cr/CrN/WC/C纳米涂层及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种CrCrNWCC纳米涂层的制备方法，其特征在于，包含下列步骤： 1使用Cr靶材对基片进行活化和脉冲磁控溅射，形成Cr金属结合力层； 2使用Cr靶材在Cr金属结合力层表面进行脉冲磁控溅射，形成CrN纳米复合涂层； 3使用WC靶材和C靶材在CrN纳米复合涂层表面进行脉冲磁控溅射，形成WC纳米涂层； 4使用C靶材在WC纳米涂层表面进行脉冲磁控溅射形成C涂层，即得所述CrCrNWCC纳米涂层； 步骤2中所述脉冲磁控溅射的微脉冲参数为2~40μs，平均功率为2~10kW，气压为0.8~2Pa，氩气流量为100~130sccm，氮气流量为30~120sccm，偏压为-60~-150V； 步骤3中使用WC靶材的脉冲磁控溅射的微脉冲参数为6~30μs，平均功率为6~10kW； 步骤3中使用C靶材的脉冲磁控溅射的脉冲直流电源参数为80~120kHz，平均功率为0.4~8kW； 步骤3中所述脉冲磁控溅射的气压为0.6~2Pa，氩气流量为100~130sccm，氮气流量为100~130sccm，偏压为-60~-300V； 步骤4中所述脉冲磁控溅射的微脉冲参数为2~40μs，平均功率为2~10kW，气压为0.8~2Pa，氩气流量为100~130sccm，偏压为-60~-150V，时间为30~60min。

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