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龙图腾网获悉兆默半导体设备(上海)有限公司申请的专利一种蒸镀均匀的真空蒸镀器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119351949B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411493849.7，技术领域涉及：C23C14/24；该发明授权一种蒸镀均匀的真空蒸镀器是由桑春峰设计研发完成，并于2024-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种蒸镀均匀的真空蒸镀器在说明书摘要公布了：本发明涉及真空蒸镀器技术领域，尤其涉及一种蒸镀均匀的真空蒸镀器。其技术方案包括蒸镀器、转动结构、存放结构、联动结构一和联动结构二，所述蒸镀器包括机壳、位于机壳一侧的开合门；所述转动结构包括环座、安装环；所述存放结构包括支撑角板、支撑杆、存放框；所述联动结构一包括支撑条一、滑套一、导杆一、连接筋一、限位环一、弹簧一、导流板一；所述联动结构二包括支撑条二、滑套二、导杆二、连接筋二、限位环二、弹簧二、导流板二。本发明通过联动结构一和联动结构之间的配合。本发明具有均匀蒸镀基地材料的功能，解决了基底材料蒸镀时需要支撑或夹持，导致夹持或支撑基底材料的接触面无法得到均匀的沉积加工的情况。

本发明授权一种蒸镀均匀的真空蒸镀器在权利要求书中公布了：1.一种蒸镀均匀的真空蒸镀器，包括蒸镀器100、转动结构200、存放结构300、联动结构一400和联动结构二500，其特征在于：所述蒸镀器100包括机壳101、位于机壳101一侧的开合门102； 所述转动结构200包括位于开合门102一侧呈等距分布的环座207、位于环座207上端内部的安装环208； 所述存放结构300包括固置于安装环208上端呈对称分布的支撑角板301、位于支撑角板301上端的支撑杆302、位于支撑杆302一端的存放框303； 所述联动结构一400包括多组等距分布的支撑条一402、嵌入安装于支撑角板301内部的滑套一408、滑动插接于滑套一408内部的导杆一404、贯穿支撑条一402且下端一侧与导杆一404上端相连接的连接筋一403、套接于导杆一404外壁的限位环一405、固置于限位环一405和支撑角板301之间的弹簧一407、位于机壳101内部且呈等距纵向等距分布的导流板一409； 所述联动结构二500包括多组等距分布的支撑条二503、嵌入安装于支撑角板301内部的滑套二507、滑动插接于滑套二507内部的导杆二508、贯穿支撑条二503且下端一侧与导杆二508上端相连接的连接筋二502、套接于导杆二508外壁的限位环二505、固置于限位环二505和支撑角板301之间的弹簧二506、位于机壳101内部且呈等距纵向等距分布的导流板二509； 所述导流板一409两端均设置有导流面一410，所述导流面一410朝向导流板一409中心段厚度逐渐递增，所述导杆一404下端转动安装有滚珠一406；所述导流板二509两端均设置有导流面二510，所述导流面二510朝向导流板二509中心段厚度逐渐递增，所述导杆二508下端转动安装有滚珠二504，所述导流板一409和导流板二509外壁均设置有对称分布且与机壳101内壁固置连接的侧板511。

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