东华大学张洁获国家专利权
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龙图腾网获悉东华大学申请的专利一种应用于FIB光刻技术中的实时检测设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119861536B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510083409.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种应用于FIB光刻技术中的实时检测设备是由张洁;张启华;简维廷;汪俊亮;张勇为;蒋军浩;吕佑龙设计研发完成，并于2025-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种应用于FIB光刻技术中的实时检测设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种应用于FIB光刻技术中的实时检测设备，包括用于离子束光刻的N把离子枪和用于离子束光刻之后的检测以保证光刻质量的N把电子枪一，N≥1，其特征在于，离子枪与电子枪一分别控制，同步工作。本发明具有如下有益效果：电子与离子枪相隔一定距离，能够实现同步工作的同时，确保互不干扰尤其是电子枪不会干扰离子枪的工作，实现实时检测的同时，大幅提高离子束光刻以及检测的效率；电子枪和离子枪分别单独控制，可以实现更好的“实时监控”；电子枪单独控制与工作，可以获得更好的监测效果。
本发明授权一种应用于FIB光刻技术中的实时检测设备在权利要求书中公布了：1.一种应用于FIB光刻技术中的实时检测设备，包括用于离子束光刻的N把离子枪和用于离子束光刻之后的检测以保证光刻质量的N把电子枪一，N≥1，其特征在于，离子枪与电子枪一分别控制； 在当前时刻，离子枪与电子枪一分别聚焦于当前N个关注点以及在工序上与当前N个关注点相邻的上N个关注点，在离子枪于当前关注点完成离子束光刻的同时，电子枪一于上N个关注点完成检测； 在下一个时刻，离子枪聚焦于在工序上与当前关注点相邻的下N个关注点，电子枪一聚焦于当前关注点，直至遍历半导体晶圆上当前工艺行的所有关注点后，离子枪与电子枪一切换至下一行继续工作。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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