深圳金伟半导体材料有限公司汤盛峰获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳金伟半导体材料有限公司申请的专利抛光设备过滤系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223683146U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520039743.3，技术领域涉及：B01D29/96；该实用新型抛光设备过滤系统是由汤盛峰;周福兵;肖凯;胡帅;肖伟设计研发完成，并于2025-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光设备过滤系统在说明书摘要公布了：本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种抛光设备过滤系统，包括：抛光设备；初级过滤部，与抛光设备连通；初级过滤部内部具有滤网；第二储液槽，进液口与初级过滤部连通，出液口与抛光设备连通；过滤器；搅拌设备，进液口与第二储液槽连通，出液口与抛光设备相通；补充装置；第一阀门；第二阀门；本实用新型提供的抛光设备过滤系统，在过滤器对抛光液进行净化处理之前，初级过滤部能够有效拦截并去除抛光液中体积较大的杂质颗粒，防止其在后续净化处理中堵塞滤芯；补充装置能够及时补充必要的添加剂，恢复抛光液的原有性能，确保抛光作业的稳定性和高效性，实现抛光液的直接回流或再生处理后的回流，提高生产效率。
本实用新型抛光设备过滤系统在权利要求书中公布了：1.一种抛光设备过滤系统，其特征在于，包括： 抛光设备1； 初级过滤部2，与抛光设备1连通；所述初级过滤部2内部具有滤网22； 第二储液槽3，进液口与所述初级过滤部2连通，出液口与抛光设备1连通； 过滤器5，设于所述初级过滤部2与第二储液槽3之间； 搅拌设备6，进液口与所述第二储液槽3连通，出液口与抛光设备1相通； 补充装置8，设于所述搅拌设备6与第二储液槽3之间； 第一阀门311，设于第二储液槽3与抛光设备1相接的管路处； 第二阀门71，设于第二储液槽3与补充装置8之间的管路处。
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