深圳和润达科技有限公司李东升获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳和润达科技有限公司申请的专利一种真空腔结构及真空镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223688439U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520104449.6，技术领域涉及：C23C14/56；该实用新型一种真空腔结构及真空镀膜设备是由李东升;李天刚设计研发完成，并于2025-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种真空腔结构及真空镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种真空腔结构及真空镀膜设备，真空腔结构包括真空腔体，真空腔体为真空密封结构；镀膜腔体，镀膜腔体为真空结构，镀膜腔体设在真空腔体内，且镀膜腔体的腔壁与真空腔体的腔壁间隔设置；镀膜机构，镀膜机构设在镀膜腔体内并依次穿出镀膜腔体和真空腔体，镀膜机构与真空腔体之间密封连接。本实用新型的真空腔结构在不影响气密性的情况下，真空腔体的腔壁和密封结构的材料用量明显减少，大大降低了真空腔结构以及具有其的真空镀膜设备的生产成本。
本实用新型一种真空腔结构及真空镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种真空腔结构，其特征在于，包括： 真空腔体，所述真空腔体为真空密封结构； 镀膜腔体，所述镀膜腔体为真空结构，所述镀膜腔体设在所述真空腔体内，且所述镀膜腔体的腔壁与所述真空腔体的腔壁间隔设置； 镀膜机构，所述镀膜机构设在所述镀膜腔体内并依次穿出所述镀膜腔体和所述真空腔体，所述镀膜机构与所述真空腔体之间密封连接。
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