苏州镓耀半导体科技有限公司张义颖获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州镓耀半导体科技有限公司申请的专利一种CVD设备高效均匀及混合气体的喷淋结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223688444U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422718831.4，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种CVD设备高效均匀及混合气体的喷淋结构是由张义颖;雍晓龙;何奇设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种CVD设备高效均匀及混合气体的喷淋结构在说明书摘要公布了：本申请公开了一种CVD设备高效均匀及混合气体的喷淋结构，喷淋主体内部设有多个同心圆设置的匀气装置，相邻匀气装置隔绝设置，并且与进气一管连通的进气孔及与进气二管连通的进气孔间隔设置，匀气装置底部连通设有多根均匀分布的喷淋管，喷淋管将均匀分布气体喷淋至反应腔室内部，如此实现了匀气装置的层流嵌套设计，使得两种气体相间喷出，提高了气体的均匀性，提高了两种气体的混合均匀性，提高了成模均匀性和增加了生长速度；匀气装置包括上下多层匀气室，相邻匀气室之间通过多个导流孔连通，匀气室在水平方向为圆环形腔室结构，气体进入每层腔室进行均匀分布，并沿导流孔流入下一层匀气室进行再次均匀分布，提高了气体的均匀性。
本实用新型一种CVD设备高效均匀及混合气体的喷淋结构在权利要求书中公布了：1.一种CVD设备高效均匀及混合气体的喷淋结构，包括喷淋主体1，其特征在于：所述喷淋主体1顶部设有进气一管21及进气二管22，所述进气一管21及进气二管22进气端分别与进气系统连通，所述喷淋主体1内部设有多个匀气装置3，所述进气一管21及进气二管22出气端分别与所述匀气装置3连通，所述匀气装置3底部连通设有多根均匀分布的喷淋管4，所述喷淋主体1底部与反应腔室连通，所述喷淋管4将均匀分布气体喷淋至反应腔室内部。
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