拓荆科技(上海)有限公司李汉超获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆科技(上海)有限公司申请的专利一种工艺腔室及半导体器件的薄膜沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223688447U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422583035.4，技术领域涉及：C23C16/458；该实用新型一种工艺腔室及半导体器件的薄膜沉积设备是由李汉超;尹重阳;付芸绮;李健;郭建修;陈剑;吴守鑫设计研发完成，并于2024-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种工艺腔室及半导体器件的薄膜沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种工艺腔室及一种半导体器件的薄膜沉积设备。所述工艺腔室包括：多个晶圆托盘，在所述工艺腔室中沿上下方向同步宏动升降；以及第一调节机构，用于对各所述晶圆托盘，分别进行上下方向的微动调节，用于对薄膜沉积设备同时进行升降调节，并对多个薄膜沉积工位进行单独的调节，从而提升薄膜沉积的精度。
本实用新型一种工艺腔室及半导体器件的薄膜沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种工艺腔室，其特征在于，包括： 多个晶圆托盘，在所述工艺腔室中沿上下方向同步宏动升降；以及 多个第一调节机构，分别用于对对应的晶圆托盘进行上下方向的微动调节，其中，所述第一调节机构包括固定部及调节部，所述固定部包括第一基板及第二基板，所述调节部包括第三基板、高度调节螺钉及第一固定螺钉， 所述第一基板的第一端固定连接所述晶圆托盘，用于带动其进行所述微动调节， 所述第三基板连接所述第二基板的第一端，所述第二基板的第二端滑动连接所述第一基板的第二端，所述高度调节螺钉安装于所述第三基板，并与所述第一基板螺纹连接，用于经由所述第一基板对薄膜沉积工作位置进行所述微动调节，所述第一固定螺钉安装于所述第三基板，并连接所述第二基板，用于将所述第二基板固定于所述调节部，以支撑所述第一基板。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓荆科技(上海)有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区鸿音路1211号10幢304室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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