株式会社荏原制作所中野央二郎获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社荏原制作所申请的专利基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112289703B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010701619.0，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法是由中野央二郎设计研发完成，并于2020-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法。基板清洗装置具备：保持基板的基板保持机构；使保持于基板保持机构的基板旋转的旋转机构；及清洗基板的清洗机构。清洗机构具备：支柱；从支柱伸出且其高度位置不变动的支臂；支撑于支臂且通过抵接于基板表面来清洗表面的清洗件；使清洗件在从基板离开的上升位置与抵接于基板的下降位置之间相对于支臂升降的升降机构；及至少控制清洗件下降时的速度的控制部。
本发明授权基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备： 基板保持机构，该基板保持机构保持基板； 旋转机构，该旋转机构使保持于所述基板保持机构的所述基板旋转；及 清洗机构，该清洗机构清洗所述基板， 所述清洗机构具备： 支柱； 支臂，该支臂从所述支柱伸出，且该支臂的高度位置不变动； 清洗件，该清洗件支撑于所述支臂，且通过抵接于所述基板表面来清洗所述表面； 升降机构，该升降机构使所述清洗件在从所述基板离开的上升位置与抵接于所述基板的下降位置之间相对于所述支臂升降；及 控制部，该控制部至少控制所述清洗件下降时的速度， 所述控制部多个阶段地降低所述清洗件从所述上升位置下降至所述下降位置时的速度，在该多个阶段中的所述清洗件到达所述下降位置的最后阶段与该最后阶段的前一个阶段之间设置时间间隔。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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