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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114068302B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110881844.1，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权基板处理方法及基板处理装置是由宫岛启介;真柄启二;片山贵志设计研发完成，并于2021-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理方法及基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括步骤S51、步骤S52、及步骤S6。在步骤S51中，在将浸渍于冲洗液71中的基板W从冲洗液71中提起后，使表面张力小于冲洗液71的有机溶剂附着于基板W，并将基板W浸于贮存于腔室51内的槽53中的冲洗液71中。在步骤S52中，从冲洗液71中提起基板W。在步骤S6中，向所提起的基板W所存在的腔室51内供给表面张力小于冲洗液71的有机溶剂的蒸汽。

本发明授权基板处理方法及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，所述基板的表面形成有包括多个结构物的图案，所述方法包括： 停止向腔室内供给惰性气体并向所述腔室内供给第一有机溶剂的蒸汽的步骤； 将浸渍于冲洗液中的所述基板从所述冲洗液中提起后，在所述多个结构物之间的空间内使所述第一有机溶剂覆盖所述冲洗液而使所述第一有机溶剂附着于所述基板的步骤，其中所述冲洗液贮存于配置于腔室内的槽中，所述第一有机溶剂的表面张力小于所述冲洗液； 将附着有所述冲洗液和所述第一有机溶剂的所述基板浸于贮存于所述槽中的所述冲洗液中，并将存在于所述多个结构物之间的所述空间内的所述冲洗液与所述第一有机溶剂混合在一起而在所述多个结构物之间的所述空间内形成稀释有机溶剂的步骤； 从所述冲洗液中提起所述基板的步骤；及 向提起的所述基板所存在的所述腔室内供给与所述第一有机溶剂类型相同的第二有机溶剂的蒸汽从而在所述多个结构物之间的所述空间内形成高浓度有机溶剂的步骤，其中所述高浓度有机溶剂的有机溶剂浓度高于所述稀释有机溶剂的有机溶剂浓度，且所述高浓度有机溶剂比所述稀释有机溶剂更厚，及 在所述高浓度有机溶剂存在于所述多个结构物之间的所述空间内的状态下，开始向所述腔室中供给所述惰性气体，从而将所述高浓度有机溶剂气化并将所述基板干燥的步骤。

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