联华电子股份有限公司杨柏宇获国家专利权
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龙图腾网获悉联华电子股份有限公司申请的专利半导体管芯以及半导体装置的制作方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114582803B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011398658.4,技术领域涉及:H01L21/78;该发明授权半导体管芯以及半导体装置的制作方法是由杨柏宇设计研发完成,并于2020-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体管芯以及半导体装置的制作方法在说明书摘要公布了:本发明公开一种半导体管芯以及半导体装置的制作方法,其中该半导体装置的制作方法包括下列步骤。对半导体晶片进行分离制作工艺以形成半导体管芯。分离制作工艺包括第一切割步骤、薄化步骤与第二切割步骤。第一切割步骤对半导体晶片进行蚀刻而于半导体晶片中形成多个第一开口。半导体晶片的一部分位于各第一开口与背表面之间且被薄化步骤移除。各第一开口于薄化步骤之后贯穿半导体晶片。第二切割步骤用以形成多个第二开口。各第二开口贯穿半导体晶片而将半导体管芯互相分离。半导体管芯包括相对的两个第一侧表面与相对的两个第二侧表面。各第一侧表面的粗糙度不同于各第二侧表面的粗糙度。
本发明授权半导体管芯以及半导体装置的制作方法在权利要求书中公布了:1.一种半导体管芯,其特征在于,包括: 两个第一侧表面彼此分离,其中该两个第一侧表面在第一方向上彼此相对; 两个第二侧表面彼此分离,其中该两个第二侧表面在第二方向上彼此相对,该第二方向垂直于该第一方向,且各该第一侧表面的粗糙度不同于各该第二侧表面的粗糙度;以及 多个角落侧表面,其中各该角落侧表面分别与该两个第一侧表面中的一个以及该两个第二侧表面中的一个直接相连,各该角落侧表面的粗糙度不同于各该第一侧表面的该粗糙度及各该第二侧表面的该粗糙度。
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