凸版印刷株式会社高田直也获国家专利权
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龙图腾网获悉凸版印刷株式会社申请的专利防护膜、防护膜组件、碳纳米管网及其制造方法、碳纳米管膜、以及碳纳米管线及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114616520B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080075746.2，技术领域涉及：G03F1/62；该发明授权防护膜、防护膜组件、碳纳米管网及其制造方法、碳纳米管膜、以及碳纳米管线及其制造方法是由高田直也;关和范;小寺豊设计研发完成，并于2020-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本防护膜、防护膜组件、碳纳米管网及其制造方法、碳纳米管膜、以及碳纳米管线及其制造方法在说明书摘要公布了：提供一种能够实现由碳纳米管制成并且透射率的面内均一性优异的防护膜的技术。防护膜12包括：分别沿着第1方向D1延伸并且沿着径向排列的多个第1碳纳米管1200a、以及分别沿着与所述第1方向D1交叉的第2方向D2延伸并且沿着径向排列的多个第2碳纳米管1200b。
本发明授权防护膜、防护膜组件、碳纳米管网及其制造方法、碳纳米管膜、以及碳纳米管线及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种防护膜，包含： 分别沿着第1方向延伸且沿着径向排列的多个第1碳纳米管、以及 分别沿着与所述第1方向交叉的第2方向延伸且沿着径向排列的多个第2碳纳米管， 所述多个第1碳纳米管形成第1碳纳米管网，所述多个第2碳纳米管形成与所述第1碳纳米管网重叠的第2碳纳米管网， 在所述第1碳纳米管网和所述第2碳纳米管网的至少一者中设置有多个孔121H， 所述多个孔121H由设置在碳纳米管阵列的多个孔或凹陷120H形成，所述孔或凹陷120H为盲孔，即，是这样的凹陷：设置在所述碳纳米管阵列的表面、并且底面由多个碳纳米管的前端构成， 具有所述孔或凹陷120H的碳纳米管阵列如下得到：制造由从支撑面起分别以大致垂直于该面的方式延伸的多个碳纳米管构成的碳纳米管阵列，在其上，形成在与所述孔或凹陷120H对应的位置处开口的掩模层，然后，在这些开口部的位置处对碳纳米管进行蚀刻。
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