清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司朱钧获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司申请的专利自由曲面凹面光栅成像光谱仪获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114877997B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110162674.1，技术领域涉及：G01J3/28；该发明授权自由曲面凹面光栅成像光谱仪是由朱钧;张本奇;谭益林;金国藩;范守善设计研发完成，并于2021-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本自由曲面凹面光栅成像光谱仪在说明书摘要公布了：一种自由曲面凹面光栅成像光谱仪，包括一狭缝、一自由曲面凹面光栅和一像面，从狭缝入射的光线照射到所述自由曲面凹面光栅上发生色散并反射形成一反射光束，该反射光束照射到所述像面上，使得狭缝入射的不同波长的光线分开并分别成像在像面上。本发明还涉及一种所述自由曲面凹面光栅成像光谱仪的设计方法。
本发明授权自由曲面凹面光栅成像光谱仪在权利要求书中公布了：1.一种自由曲面凹面光栅成像光谱仪，包括一像面，其特征在于，所述自由曲面凹面光栅成像光谱仪进一步包括一狭缝和一自由曲面凹面光栅，所述自由曲面凹面光栅具有一自由曲面，从所述狭缝入射的光线照射到所述自由曲面上发生色散并反射形成一反射光束，该反射光束照射到所述像面上，使得狭缝入射的不同波长的光线分开并分别成像在所述像面上；其中，所述自由曲面凹面光栅为变线距自由曲面凹面光栅，从所述狭缝不同位置入射的特征光线与所述自由曲面的交点定义为特征数据点，所述自由曲面的上不同特征数据点处的光栅线距不同；所述自由曲面凹面光栅的光谱色散大于等于100nmmm。
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