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龙图腾网获悉华勤技术股份有限公司申请的专利菲涅尔透镜及其结构设计方法、电子设备和存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115755241B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211456244.1，技术领域涉及：G02B3/08；该发明授权菲涅尔透镜及其结构设计方法、电子设备和存储介质是由屠敏懿设计研发完成，并于2022-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本菲涅尔透镜及其结构设计方法、电子设备和存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例涉及光学领域，公开了一种菲涅尔透镜及其设计方法、电子设备和存储介质。菲涅尔透镜包括：菲涅尔透镜的出射面为光面、入射面上刻录有半径不同的多个同心圆，所述多个同心圆的纵向过圆心剖面呈连续锯齿状，且每个锯齿所对应的两个侧面中靠近圆心的一面为折射面、远离圆心的一面为全反射曲面；当入射光线照射在所述折射面时，所述入射光线发生折射形成折射光线，所述折射光线经所属同一所述锯齿的所述全反射曲面发生全反射后形成准直光线并从所述出射面出射。将原本的拔模面作为折射面，将光线偏折至全反射面上形成准直光线，利用上原本损失的光能量，从而提升了菲涅尔透镜的出光效率。

本发明授权菲涅尔透镜及其结构设计方法、电子设备和存储介质在权利要求书中公布了：1.一种菲涅尔透镜的结构设计方法，其特征在于，应用于菲涅尔透镜，所述菲涅尔透镜的出射面为光面、入射面上刻录有半径不同的多个同心圆，所述多个同心圆的纵向过圆心剖面呈连续锯齿状，且每个锯齿所对应的两个侧面中靠近圆心的一面为折射面、远离圆心的一面为全反射曲面；当入射光线照射在所述折射面时，所述入射光线发生折射形成折射光线，所述折射光线经所属同一所述锯齿的所述全反射曲面发生全反射后形成准直光线并从所述出射面出射； 所述方法包括： 基于菲涅尔透镜的光学设计参数，计算折射面的入射光线、折射光线和所述折射面上经所述入射光线与折射面交点的第一法向量之间的折射关系，并计算全反射曲面的所述折射光线、准直光线和所述全反射曲面上经所述折射光线与全反射曲面交点的第二法向量之间的反射关系； 获取所述折射光线与所述折射光线的单位向量之间的共线关系，并获取所述全反射曲面与所述第二法向量的垂直关系； 基于所述折射关系、所述反射关系、所述共线关系和所述垂直关系，获取所述全反射曲面上的点坐标； 根据所述点坐标确定所述菲涅尔透镜的全反射曲面和与所述全反射曲面关联的折射面。

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