深圳晶源信息技术有限公司陈运获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利一种掩模图形优化方法及掩模板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115755522B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211559561.6，技术领域涉及：G03F1/76；该发明授权一种掩模图形优化方法及掩模板是由陈运;丁明设计研发完成，并于2022-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩模图形优化方法及掩模板在说明书摘要公布了：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种掩模图形优化方法及掩模板。所述方法提供初始掩模版图，将初始掩模版图划分为预设等级的分块，相邻分块间界定原始边界线，原始边界线扩展形成扩展边界线；将分块内掩模图形进行打断获得线段；在线段上放置初始评价点，模拟掩模图形形成实际掩模图像和理想掩模图像，并将初始评价点在实际掩模图像和理想掩模图像的轮廓上的投影进行关联以获得评价点的边缘放置误差；基于评价点的边缘放置误差和预设评价函数对分块扩展边界线内的掩模图形进行优化并输出分块原始边界线内的优化结果；按照预设次序优化所有分块并拼接分块原始边界线内的优化结果获得优化掩模版图。解决掩模版图内分块边界优化具有差异性的问题。
本发明授权一种掩模图形优化方法及掩模板在权利要求书中公布了：1.一种掩模图形优化方法，其特征在于：包括： 提供初始掩模版图，将初始掩模版图划分为预设等级的分块，相邻分块间界定原始边界线，原始边界线扩展形成扩展边界线； 将分块内掩模图形进行打断获得线段； 在线段上放置初始评价点，模拟掩模图形形成实际掩模图像和理想掩模图像，并将初始评价点在实际掩模图像和理想掩模图像的轮廓上的投影进行关联以获得评价点的边缘放置误差； 基于评价点的边缘放置误差和预设评价函数对分块扩展边界线内的掩模图形进行优化并输出分块原始边界线内的优化结果； 按照预设次序优化所有分块并拼接分块原始边界线内的优化结果获得优化掩模版图。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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