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龙图腾网获悉电子科技大学长三角研究院(湖州)申请的专利一种生成不同孔隙率非晶二氧化硅化学膜模型评估辐照效应的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115831281B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211418359.1，技术领域涉及：G16C60/00；该发明授权一种生成不同孔隙率非晶二氧化硅化学膜模型评估辐照效应的方法是由冯青屹;邓洪祥;向霞;祖小涛设计研发完成，并于2022-11-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种生成不同孔隙率非晶二氧化硅化学膜模型评估辐照效应的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种生成不同孔隙率非晶二氧化硅化学膜模型评估辐照效应的方法，利用电荷法chargescaling并结合分子动力学和第一性原理计算手段，生成不同孔隙率非晶二氧化硅化学膜原子结构模型，计算其基本物理性质弹性模量、热导率、透光率，为后续化学膜辐照效应的理论研究提供了有效可靠的模型与理论方法。

本发明授权一种生成不同孔隙率非晶二氧化硅化学膜模型评估辐照效应的方法在权利要求书中公布了：1.一种生成不同孔隙率非晶二氧化硅化学膜模型评估辐照效应的方法，其特征在于，包括有以下步骤： S1、生成非晶二氧化硅膜结构 S11、将硅原子和氧原子随机插入到提前构建的包含一定数量氧硅原子的超晶胞中，其密度调整为1.1gcm3； S12、体系在NVT系综中充分弛豫，由于体系中的原子间有限库仑力相互作用，硅原子和氧原子的离子电荷各自逐步增加，之后体系在300K和0GPa下进一步弛豫平衡，最终得到一个稳定的二氧化硅化学膜的原子结构； S2、生成不同孔隙率的非晶二氧化硅化学膜结构 S21、在S12得到的稳定的非晶化学膜结构中去除一定数量的氧原子和硅原子，从而生成不同孔隙率的非晶化学膜结构； S22、重复步骤S1，利用第一性原理计算方法对这些结构进行充分优化，优化至能量达到一定收敛标准后，获得稳定的不同孔隙率的非晶二氧化硅化学膜结构； S3、评估不同孔隙率对化学膜的物理性质的影响 S31、利用第一性原理计算方法，获得不同孔隙率的非晶化学膜结构的电子性质； S32、对不同孔隙率的非晶化学膜结构的结构参数进行统计计算； S33、结合多体理论并考虑激子效应，模拟计算出这些非晶结构的光学性质； S34、利用平衡态分子动力学EMD方法和压力-能量方法分别计算不同孔隙率的化学膜的热导率和弹性模量。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人电子科技大学长三角研究院(湖州)，其通讯地址为：313000 浙江省湖州市西塞山路819号南太湖科技创新综合体B2幢8层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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