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细美事有限公司金志勋获国家专利权

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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利用于处理基板的装置和用于处理基板的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116072500B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211364255.7,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法是由金志勋;金炯俊设计研发完成,并于2022-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在说明书摘要公布了:本发明提供了用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。具体地,该基板处理装置包括:壳体,该壳体具有用于处理基板的处理空间;支承单元,该支承单元配置为在处理空间处支承基板;等离子体源,该等离子体源用于从供应至处理空间的工艺气体产生等离子体;排出管线,该排出管线连接至壳体、并排出处理空间的气氛;以及压力调节单元,该压力调节单元定位在支承单元与排出管线之间、且配置为调节从排出管线排出的排出压力,并且其中压力调节单元包括:用于开启和关闭排出管线的开启关闭构件;用于在上下方向上移动开启关闭构件的提升降低构件;以及用于向提升降低构件提供回复力的弹性构件。

本发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在权利要求书中公布了:1.一种基板处理装置,所述基板处理装置包括: 壳体,所述壳体具有用于处理基板的处理空间; 支承单元,所述支承单元配置为在所述处理空间处支承所述基板;以及 等离子体源,所述等离子体源用于从供应到所述处理空间中的工艺气体产生等离子体; 排出管线,所述排出管线连接至所述壳体并排出所述处理空间的气氛;以及 压力调节单元,所述压力调节单元定位在所述支承单元与所述排出管线之间并配置为调节从所述排出管线排出的排出压力,并且 其中所述压力调节单元包括: 开启关闭构件,所述开启关闭构件用于开启和关闭所述排出管线; 提升降低构件,所述提升降低构件用于在上下方向上移动所述开启关闭构件;以及 弹性构件,所述弹性构件用于向所述提升降低构件提供回复力, 其中,所述开启关闭构件包括: 底板,所述底板形成为当从上面观察时覆盖所述排出管线;以及 止动构件,所述止动构件从所述底板的底端延伸并具有与所述排出管线的直径相同或更小的直径, 其中,所述弹性构件连接所述支承单元的底端和所述底板的顶端。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人细美事有限公司,其通讯地址为:韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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