细美事有限公司金东勋获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利用于处理基板的装置和用于处理基板的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116072501B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211364471.1，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法是由金东勋;丘峻宅;卢明燮;吴东燮设计研发完成，并于2022-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，该壳体具有内部空间；板，该板将该内部空间分成上方的第一空间和下方的第二空间，并且该板具有多个通孔；第一气体供应单元，该第一气体供应单元被配置成将第一气体供应到该第一空间；等离子体源，该等离子体源用于在该第一空间或该第二空间处产生等离子体；以及监测单元，该监测单元安装在该板处，并且被配置成监测在该第一空间或该第二空间处产生的该等离子体的特性。
本发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括： 壳体，所述壳体具有内部空间； 板，所述板将所述内部空间分成上方的第一空间和下方的第二空间，并且所述板具有多个通孔； 第一气体供应单元，所述第一气体供应单元被配置成将第一气体供应到所述第一空间； 等离子体源，所述等离子体源用于在所述第一空间或所述第二空间处产生等离子体；以及 监测单元，所述监测单元安装在所述板处，并且被配置成监测在所述第一空间或所述第二空间处产生的所述等离子体的特性； 其中，连接所述第一空间或所述第二空间、与所述监测单元的光路在所述板处形成； 其中，所述等离子体源包括： 第一电极，所述第一电极被施加有第一高频功率并且在所述第一空间处产生第一等离子体；以及 第二电极，所述第二电极被施加有第二高频功率并且在所述第二空间处产生第二等离子体，并且 其中，所述光路具有第一路径和第二路径，所述第一路径沿上下方向透过所述板，所述第二路径连接到所述第一路径并且沿朝向所述板的侧壁的方向延伸。
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