铜陵欣诺科新材料有限公司江杰获国家专利权
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龙图腾网获悉铜陵欣诺科新材料有限公司申请的专利含硅的双膦烯烃化合物及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116444565B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310441775.1，技术领域涉及：C07F9/50；该发明授权含硅的双膦烯烃化合物及其制备方法与应用是由江杰;孙明明;赵万越设计研发完成，并于2023-04-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本含硅的双膦烯烃化合物及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种含硅的双膦烯烃化合物及其制备方法与应用。上述含硅的双膦烯烃化合物具有如下结构通式：其中，R1～R3各自独立地为C1～C10烷基，R4～R7各自独立地为取代或未取代的芳基，取代的芳基选自C1～C10烷基取代的芳基、C1～C10烷氧基取代的芳基及卤素取代的芳基中的任一种或几种的组合。上述含硅的双膦烯烃化合物不仅能够用于无卤阻燃的聚烯烃的制备中，还能够用于制备有机膦配体。
本发明授权含硅的双膦烯烃化合物及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种含硅的双膦烯烃化合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 将化合物1、化合物2、第一有机溶剂和第一碱性试剂混合反应，制备含硅的双膦烯烃化合物； 其中，所述化合物1的结构式为，所述化合物2的结构式为，所述含硅的双膦烯烃化合物的结构式为，R1~R3各自独立地为C1~C10烷基，R4~R7各自独立地为取代或未取代的C5~C20芳基，取代的C5~C20芳基选自C1~C10烷基取代的C5~C20芳基、C1~C10烷氧基取代的C5~C20芳基及卤素取代的C5~C20芳基中的任一种或多种的组合，或者，R4~R7各自独立地为吡啶基或噻吩基； 所述第一有机溶剂选自二甲苯、四氢呋喃、2-甲基四氢呋喃、1,4-二氧六环及乙醚中的任一种或多种的组合； 所述第一碱性试剂选自正丁基锂及仲丁基锂中的任一种或两种的组合，反应温度为-10℃~40℃。
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