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龙图腾网获悉重庆金美新材料科技有限公司申请的专利一种镀膜均匀性监测与调控系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116445864B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310498962.3，技术领域涉及：C23C14/26；该发明授权一种镀膜均匀性监测与调控系统和方法是由臧世伟;刘文卿设计研发完成，并于2023-05-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种镀膜均匀性监测与调控系统和方法在说明书摘要公布了：本发明实施例提供一种镀膜均匀性监测与调控系统和方法，该系统包括：真空卷绕镀膜装置，其包括放卷机构、用于对基膜进行蒸镀的蒸发机构和收卷机构；温度测定装置，用于测量所述蒸发机构的温度值；面阻测试装置，用于测量所述基膜的面阻值；控制装置，用于根据所述蒸发机构的温度值和所述基膜的面阻值，控制所述放卷机构的基膜传动速度和或所述蒸发机构的加热功率，以使得镀层沿着基膜移动方向的厚度具有均匀性。本发明能够基于温控与镀膜速度的匹配实现走膜方向镀膜厚度均匀性更加一致。

本发明授权一种镀膜均匀性监测与调控系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种镀膜均匀性监测与调控系统，其特征在于，所述系统包括： 真空卷绕镀膜装置，其包括放卷机构、用于对基膜进行蒸镀的蒸发机构和收卷机构； 温度测定装置，用于测量所述蒸发机构的温度值； 面阻测试装置，用于测量所述基膜的面阻值； 控制装置，用于根据所述蒸发机构的温度值和所述基膜的面阻值，控制所述放卷机构的基膜传动速度和或所述蒸发机构的加热功率，以使得镀层沿着基膜移动方向的厚度具有均匀性； 所述控制装置，具体用于根据在预设面阻阈值下的基膜传动速度与所述蒸发机构的温度值之间的函数关系，以及所述蒸发机构的实时温度值，确定所述放卷机构的实时基膜传动速度； 所述蒸发机构包括第一蒸发系统和第二蒸发系统，所述第一蒸发系统设置在所述第二蒸发系统的沿基膜传送路径的上游； 所述温度测定装置包括：第一温度探测仪，设置在所述第一蒸发系统上，用于测量所述第一蒸发系统的第一温度值；以及，第二温度探测仪，设置在所述第二蒸发系统上，用于测量所述第二蒸发系统的第二温度值； 所述面阻测试装置包括：第一面阻测试仪，设置于所述第一蒸发系统和所述第二蒸发系统之间的基膜传送路径上，用于测量所述基膜的当前镀膜面的第一面阻值；以及，第二面阻测试仪，设置于所述第二蒸发系统与所述收卷机构之间的基膜传送路径上，用于测量所述基膜的双面上形成的镀层的总面阻值，以及根据所述总面阻值与所述第一面阻值的差值得到另一镀膜面的第二面阻值。

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