华中科技大学邓仁华获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种制备纳米涂层的印刷装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116833022B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310667777.2，技术领域涉及：B05C1/02；该发明授权一种制备纳米涂层的印刷装置及方法是由邓仁华;金少鸿;朱锦涛设计研发完成，并于2023-06-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种制备纳米涂层的印刷装置及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种制备纳米涂层的印刷装置及方法，属于纳米涂层制备技术领域。本发明印刷装置包括打印系统，打印系统包括纤维和打印喷头，纤维穿插于两交叉支撑管内；打印喷头的尖端与纤维的刮刀接触；打印喷头与支撑管通过固定件固定；打印系统与位移支架连接，打印系统的正下方为沉积平台；位移控制器用于控制位移支架或沉积平台平移。通过控制墨水浓度、纤维与基底间距、印刷速度，可实现面积大、均匀性优异的纳米涂层快速印刷。本发明提供的印刷装置结构简单，材料易得，制造方便且成本低，提供的技术兼容性强、重复性好，可实现大面积均匀纳米涂层的快速制备。
本发明授权一种制备纳米涂层的印刷装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种制备纳米涂层的印刷装置，其特征在于，包括打印系统，所述打印系统包括纤维1和打印喷头2，所述纤维1从两交叉支撑管3内部中空穿过，且所述纤维1呈闭合状态，所述纤维1底部穿出所述支撑管3的水平部分作为刮刀，所述支撑管3用于维持刮刀呈水平绷直状态并用于调节刮刀的长度；所述打印喷头2的尖端与所述刮刀接触；所述打印喷头2与所述支撑管3通过固定件4固定；所述刮刀下方为沉积平台6，且所述刮刀与所述沉积平台6不接触； 所述打印系统与位移支架5连接，所述印刷装置还包括位移控制器7，所述位移控制器7用于控制位移支架5或沉积平台6平移。
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