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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种投影式结构光掩膜图案可制造性增强方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119861526B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510229997.6，技术领域涉及：G03F1/76；该发明授权一种投影式结构光掩膜图案可制造性增强方法及系统是由刘世元;张劲松;欧阳新萍;朱金龙设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种投影式结构光掩膜图案可制造性增强方法及系统在说明书摘要公布了：本发明属于投影光场调控技术领域，具体为一种投影式结构光掩膜图案可制造性增强方法及系统。根据目标结构光场和投影系统的倍率确定初始掩膜图案；采用矢量衍射成像模型计算初始生成结构光场，并计算目标函数的数值，判断是否满足预设阈值；若不满足，则采用最优梯度法对掩膜图案进行迭代优化，直至满足目标函数的预设阈值，并输出连续数值掩膜；随后根据所需的掩膜制造精度，对连续数值掩膜进行像素分裂或融合；采用局部积分近似操作，对掩膜进行二值化处理，增强掩膜的可制造性。本发明能够实现高自由度、高效率、低算力需求且鲁棒的投影式结构光场优化并获得可制造的掩膜图案，且掩膜的制造精度可任意调整，以适应不同的掩膜图案制备工艺。

本发明授权一种投影式结构光掩膜图案可制造性增强方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种投影式结构光掩膜图案可制造性增强方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、根据目标光场It，确定初始掩膜图案Mini； S2、利用矢量衍射成像模型，仿真得到所述初始掩膜图案通过投影系统所生成的结构光场Ii； S3、将所述目标光场It和所述仿真生成的结构光场Ii代入目标函数，比较目标函数的计算结果与预设收敛阈值，判断所述结构光场Ii是否满足要求； S4、若所述目标函数结果大于预设收敛阈值，则采用最优梯度法对掩膜图案Mi进行优化更新，随后计算更新后掩膜图案所生成的结构光场及其对应的目标函数结果，直至所述目标函数满足预设收敛阈值要求或优化次数达到上限，输出具有连续数值的优化掩膜图案MO； S5、采用插值方法对所述优化掩膜图案MO的像素进行分裂或融合，得到具有任意所需的像素尺寸的掩膜图案MO-A；随后采用局部积分近似方法对所述优化掩膜图案MO-A进行二值化限制，输出具有可制造性的二值优化掩膜图案MO-L。

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