华中科技大学刘世元获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种振幅型全息掩膜的优化生成方法及设备与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120143548B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510448433.1，技术领域涉及：G03F1/70；该发明授权一种振幅型全息掩膜的优化生成方法及设备与应用是由刘世元;冯献瑞;张震阳设计研发完成，并于2025-04-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种振幅型全息掩膜的优化生成方法及设备与应用在说明书摘要公布了：本发明属于半导体光刻技术相关技术领域，其公开了一种振幅型全息掩模的优化生成方法及设备与应用，步骤为：1基于待生成的目标图案、优化系统的初始待优化参数分布及优化系统的成像方法确定系统损失函数，并通过梯度下降法或共轭梯度法对系统损失函数进行梯度求解，通过求解得到的梯度对待优化参数进行参数更新，以得到最佳优化参数；2通过参数变换将最佳优化参数转换为二值振幅全息掩膜。本发明提高了精度。
本发明授权一种振幅型全息掩膜的优化生成方法及设备与应用在权利要求书中公布了：1.一种振幅型全息掩膜的优化生成方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： 1基于待生成的目标图案、优化系统的初始待优化参数分布及优化系统的成像方法确定系统损失函数，并通过梯度下降法或共轭梯度法对系统损失函数进行梯度求解，通过求解得到的梯度对待优化参数进行参数更新，以得到最佳优化参数； 2通过参数变换将最佳优化参数转换为二值振幅全息掩膜； 系统损失函数的表达式为： 其中为优化系统的待优化参数，表示将待优化参数进行参数变换以将待优化参数转换为掩模分布，表示将掩模图案进行成像传播后的光场分布，为所选取的目标图案分布，为系统损失函数的指数。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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