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龙图腾网获悉江苏光启灵犀装备有限公司申请的专利一种显影去胶可碱溶的光刻胶的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120255278B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510403646.2，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种显影去胶可碱溶的光刻胶的制备方法是由林智威;张漫江;郑怡倩;洪炎建;龙钰;张尔海;苏粤;刘永配设计研发完成，并于2025-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种显影去胶可碱溶的光刻胶的制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及一种显影去胶可碱溶的光刻胶的制备方法。本发明旨在解决现有的光刻胶无法在显影和去胶两段工艺中实现完全碱溶的问题。本发明通过微乳液聚合将羧基填料前体制备成羧酸基填料，采用偶联剂改性酚基填料前体获得酚基填料，两者经共聚处理生成碱溶性填料；水溶性前体经接枝共聚形成水溶性聚合单体，光引发剂经表面功能化改性后与水溶性聚合单体在10‑20℃预混合，再与碱溶性填料于70℃交联共聚，最终经减压脱泡得到显影去胶可碱溶的光刻胶。本发明制备的显影去胶可碱溶的光刻胶在半导体刻蚀工艺的显影和去胶环节中都完全可碱溶，降低了刻蚀过程中有机污染物造成的风险，具有良好的应用前景。

本发明授权一种显影去胶可碱溶的光刻胶的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种显影去胶可碱溶的光刻胶的制备方法，其特征在于：所述制备方法如下： 将羧基填料前体经过微乳液聚合得到羧酸基填料； 其中，所述羧基填料前体包括聚丙烯酸酯和聚苯乙烯； 所述微乳液聚合的过程为：将所述聚丙烯酸酯、所述聚苯乙烯和十六烷基三甲基溴化铵溶于四氢呋喃中，以300-500rpm的转速搅拌反应30min后，加入过硫酸铵，在氮气保护下以85℃的反应温度、5.5-6.5的反应pH反应4小时，冷却后得到所述羧酸基填料； 将酚基填料前体通过偶联剂改性得到酚基填料； 其中，所述酚基填料前体为双酚A酚醛树脂； 所述偶联剂改性的过程为：按质量份数计，将20份所述双酚A酚醛树脂溶于100份乙醇中，加入3份KH550，在60℃下搅拌2小时，旋蒸除去所述乙醇后在80℃下真空干燥2-4小时； 将所述羧酸基填料和所述酚基填料经过共聚处理，得到碱溶性填料； 所述共聚处理的过程为：按质量份数计，将58-63份所述羧酸基填料和33-40份所述酚基填料共同分散于200份四氢呋喃中，保持270-350rpm的转速，加入0.45份偶氮二异丁腈，在120℃和1.5MPa的反应压力下反应3小时，所得产物用丙酮洗涤后干燥； 将水溶性前体通过接枝共聚得到水溶性聚合单体； 将2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯进行表面功能化，得到改性光引发剂； 将所述改性光引发剂与所述水溶性聚合单体在10-20℃下预混合，得到预聚单体； 将100份所述预聚单体和45-115份所述碱溶性填料均匀分散后，进行交联共聚，得到光刻胶前体； 将所述光刻胶前体经减压脱泡后，得到所述显影去胶可碱溶的光刻胶。

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