合肥美亚光电技术股份有限公司吴泽鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥美亚光电技术股份有限公司申请的专利相机的调焦方法、介质、电子设备和视觉定位仪获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120711287B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511196450.7，技术领域涉及：H04N23/67；该发明授权相机的调焦方法、介质、电子设备和视觉定位仪是由吴泽鹏;蔡广杰设计研发完成，并于2025-08-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本相机的调焦方法、介质、电子设备和视觉定位仪在说明书摘要公布了：本发明公开了一种相机的调焦方法、介质、电子设备和视觉定位仪，涉及视觉定位技术领域。相机的调焦方法包括：根据相机的目标工作空间确定对焦面深度；利用相机采集放置于第一目标位置的被测物体的第一图像，其中，第一目标位置根据对焦面深度确定；根据第一图像的质量对相机进行调焦。由此，首先根据相机的目标工作空间确定对焦面深度，再利用相机采集放置于根据对焦面深度确定的第一目标位置的被测物体的第一图像，并根据第一图像的质量对相机进行调焦，可实现相机的快速调焦，且调焦结果可满足相机目标工作空间的精度要求。
本发明授权相机的调焦方法、介质、电子设备和视觉定位仪在权利要求书中公布了：1.一种相机的调焦方法，其特征在于，包括： 根据相机的目标工作空间确定对焦面深度； 利用相机采集放置于第一目标位置的被测物体的第一图像，其中，所述第一目标位置根据所述对焦面深度确定； 根据所述第一图像的质量对所述相机进行调焦； 所述根据相机的目标工作空间确定对焦面深度，包括： 确定所述目标工作空间对应的容许弥散圆约束，并根据所述容许弥散圆约束，以及所述目标工作空间的最近距离、最远距离得到所述对焦面深度； 其中，所述容许弥散圆约束表征第一容许弥散圆大小与第二容许弥散圆大小之间的映射关系，所述第一容许弥散圆为所述目标工作空间最近距离对应的相机前景深所对应的容许弥散圆，所述第二容许弥散圆为所述目标工作空间最远距离对应的相机后景深所对应的容许弥散圆。
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