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龙图腾网获悉浙江众凌科技有限公司申请的专利金属掩膜版的应力释放方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120715304B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511135573.X，技术领域涉及：B23D79/00；该发明授权金属掩膜版的应力释放方法及系统是由韩真真;蔡俊飞;龚月良;康紫彤;姜慧慧设计研发完成，并于2025-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本金属掩膜版的应力释放方法及系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种金属掩膜版的应力释放方法及系统。在切割工序开始之前，对待释放应力产品进行一定程度的张力释放，最大程度的避免了在切割动作完成时刻张力瞬间释放导致产品向中间回弹形成拱桥状回弹现象。本申请计算了待释放应力产品的回复形变量，并控制所述待释放应力产品在X方向移动的第一距离d1≤d，计算第一形变量均值，并判断第一形变量均值是否在预设范围内，若是，则保持所述待释放应力产品的当前状态，进行切割。上述步骤可以用来确定待释放应力产品的内部应力是否释放到合适范围。上述应力释放方法，在切割前应力得到释放，能保持合适的张应力，避免待释放应力产品存在褶皱，释放完应力之后材料的成品率大大提升。

本发明授权金属掩膜版的应力释放方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种金属掩膜版的应力释放方法，应用于金属掩膜版切割前的应力释放，其特征在于，包括以下步骤： S01，获取标准产品的第一图像； S02，获取设置于产品支撑框架上的待释放应力产品的第二图像，待释放应力产品为拉伸状态下的金属掩膜版； S03，对比所述第一图像和所述第二图像，若存在差别，则计算应力完全释放后所述待释放应力产品在X方向的回复形变量d，计算所述回复形变量d的步骤包括： S10，将具有高密度微孔结构的金属掩膜版产品转化为等效均质结构，其中，转化过程包括计算金属掩膜版的孔隙率，并结合所述孔隙率修正金属掩膜版的等效材料参数； S20，创建平面壳体模型，获取所述等效材料参数，并按照线性四边形壳单元进行网格划分； S30，确定边界条件类型，通过对比所述第一图像和所述第二图像获取各个像素点的位移场作为初始位移输入，并设置约束金属掩膜版的X=0一端的所有自由度均为0； S40，设置求解器，并进行求解计算，输出计算结果为全场X方向正应力；所述求解器的分析类型为静态线性分析，收敛控制为默认残差容差；所述默认残差容差小于10-6； S50，结合S40中计算得出的全场X方向正应力，计算X方向回复形变量d； S04，控制所述待释放应力产品在X方向移动的第一距离d1，且d1≤d； S05A，获取移动第一距离之后所述待释放应力产品的第三图像，对比所述第二图像和所述第三图像，并计算所述待释放应力产品的第一形变量均值，若所述第一形变量均值在预设范围内，则保持所述待释放应力产品的当前状态，进行切割。

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