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龙图腾网获悉江苏凯威特斯半导体科技有限公司申请的专利一种耐等离子刻蚀的纳米结构复合陶瓷涂层及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120817820B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511255059.X，技术领域涉及：C04B41/89；该发明授权一种耐等离子刻蚀的纳米结构复合陶瓷涂层及制备方法是由严汪学;朱文健;马凯;李成新;陈开清;薛弘宇;桂传书设计研发完成，并于2025-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种耐等离子刻蚀的纳米结构复合陶瓷涂层及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种耐等离子刻蚀的纳米结构复合陶瓷涂层及其制备方法，属于半导体器件制造过程中的表面防护技术领域，复合陶瓷涂层包括采用真空冷喷涂方法在基底上依次沉积的打底层和表面防护层，打底层材料为氧化物陶瓷，表面防护层材料为高稳定性稀土陶瓷，打底层的厚度为0.2~20μm，晶粒尺寸为10~200nm，表面防护层的厚度为1~10μm，晶粒尺寸为10~50nm。本发明通过先采用真空冷喷涂的方法在基底表面制作一层氧化物陶瓷涂层作为打底层后热处理，以保证涂层具有较高的结合力，防止后续涂层脱落，在制作高稳定性稀土陶瓷时，选用粉末粒径较小的粉体进行制作，以保证涂层有一定的耐刻蚀性能。

本发明授权一种耐等离子刻蚀的纳米结构复合陶瓷涂层及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种耐等离子刻蚀的纳米结构复合陶瓷涂层，其特征在于，包括采用真空冷喷涂方法在基底上依次沉积的打底层、中间过渡层和表面防护层，所述打底层的材料为氧化物陶瓷，所述氧化物陶瓷为氧化铝或氧化钇，所述表面防护层材料为高稳定性稀土陶瓷，包括氧化钇、氟化钇、氟氧化钇或钇铝石榴石中的至少一种，所述中间过渡层材料为氧化物陶瓷和高稳定性稀土陶瓷的混合物；所述打底层的厚度为0.2~20μm，晶粒尺寸为10~200nm，打底层的孔隙率2%，所述表面防护层的厚度为1~10μm，晶粒尺寸为10~50nm，表面防护层的孔隙率1%，所述中间过渡层厚度为0.2~20μm，晶粒尺寸范围为10~200nm，中间过渡层的孔隙率2%； 其中，所述纳米结构复合陶瓷涂层的制备方法包括以下步骤： 1对基材表面进行机械抛光处理，使其表面粗糙度Ra0.2μm； 2选用粉末粒径为0.2~2.3μm的氧化物陶瓷粉，采用真空冷喷涂的方法在基底上制作打底层，并对其进行热处理； 3采用真空冷喷涂方法在步骤2得到的打底层上面制作中间过渡层，过渡层粉末的粒径范围为0.2~2μm，过渡层制作完成后进行热处理； 4在步骤3得到的热处理后的过渡层表面制作表面防护层，表面防护层粉末的粒径范围为0.3~0.8μm，表面防护层制作完成后进行热处理。

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