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龙图腾网获悉内蒙古大全半导体有限公司申请的专利双加热系统电子级多晶硅还原炉及其工艺方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120864506B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511397363.8，技术领域涉及：C01B33/035；该发明授权双加热系统电子级多晶硅还原炉及其工艺方法是由魏富增;方磊;赵云浩;彭坤;任天宇设计研发完成，并于2025-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本双加热系统电子级多晶硅还原炉及其工艺方法在说明书摘要公布了：本发明公开了双加热系统电子级多晶硅还原炉及其工艺方法，涉及多晶硅生产设备技术领域，还原炉包括在微波窗口上下分别开设有冷却液进口和冷却液出口；在每个微波窗口的外侧固定设置有微波发射支管，每个微波发射支管与微波发射器通过微波传递总管连接；方法包括S1、启炉；S2、硅棒生长初期；S3、硅棒生长中期；S4、硅棒生长后期；S5、停炉降温。有益效果：本发明公开了一种双加热系统电子级多晶硅还原炉，可以生产更大直径的硅棒，显著提高单炉产量；提升硅棒品质，满足电子级多晶硅对质量的高要求；本发明公开了工艺方法，原料利用率提升至89%以上，无定形硅粉生成量降低至7.2kg炉以下，单位硅棒能耗降低。

本发明授权双加热系统电子级多晶硅还原炉及其工艺方法在权利要求书中公布了：1.双加热系统电子级多晶硅还原炉的工艺方法，其特征在于，其包括以下步骤： S1、启炉：完成冷却水、冷却液循环启动，接着进行气路置换后，向炉内通入流量为20-25Nm3h的H2，之后进行微波预热，其中微波初始功率为5-6kW，使炉内温度升至600-700℃；然后向电极通入600-650A的初始电流，进行加热，使炉内温度达到800-1200℃，启炉完成； S2、硅棒生长初期：在0-36h之间，向步骤S1中的炉内通入流量为50-70kgh的SiHCl3，并且SiHCl3的流量每6h提升6-10kgh，至90-110kgh，通入的H2与SiHCl3的摩尔比控制在5-6：1；控制电极电流每8h提升30-40A，至750-800A，微波功率同步每8小时提升0.8-1.0kW，至8.5-9.0kW； S3、硅棒生长中期：在36-84h之间，在步骤S2的基础上，SiHCl3的流量每8h提升11-18kgh，至180-200kgh，通入的H2与SiHCl3的摩尔比控制在6-7：1；控制电极电流每6h提升18-30A，至950-980A，微波功率同步每6小时提升1.2-1.5kW，至19-20kW； S4、硅棒生长后期：在84-132h之间，在步骤S3的基础上，SiHCl3的流量稳定在180-200kgh，通入的H2与SiHCl3的摩尔比控制在7-8：1；控制电极电流每10h提升10-15A，最高达到995A，微波功率同步每10小时提升0.5-0.8kW，最高达到21kW； S5、停炉降温：在步骤S4的基础上，SiHCl3的流量每15-20min降低20-30kgh，至0kgh，H2的流量将至20-25Nm3h；控制电极电流每10-15min降低20-30A，微波功率同步每10-15min降低1-1.5kW；当炉温降至600-700℃、电极电流降至200-300A、微波功率降至2-3kW时，先关闭微波发射器，再切断电极电流，然后停止通入H2，切换为氮气吹扫，置换炉内残留气体，置换完成后停止冷却水、冷却液循环，得到直径为446-458mm的多晶硅棒; 其中，双加热系统电子级多晶硅还原炉包括支架平台、中空底盘以及夹套式炉筒，在所述支架平台上水平固定有所述中空底盘，在所述中空底盘上密封固定有所述夹套式炉筒，在所述夹套式炉筒内的所述中空底盘上设置有若干对电极，在每对所述电极上插设有U型硅芯；在所述中空底盘上开设有若干尾气孔和进气孔；在所述夹套式炉筒的侧壁上分别开设有与所述夹套式炉筒内部联通的氮气进口和氮气出口；冷却水管线的出水端分别与所述夹套式炉筒和所述中空底盘的冷却水进口连通； 其还包括若干均匀环绕分布于所述夹套式炉筒中上部的微波窗口和微波发射器；所述微波窗口为双层石英玻璃材质，且内部中空设置，在所述微波窗口上下分别开设有冷却液进口和冷却液出口；在每个所述微波窗口的外侧固定设置有微波发射支管，每个所述微波发射支管与所述微波发射器通过微波传递总管连接。

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