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龙图腾网获悉浙江晟霖益嘉科技有限公司申请的专利可实现Cu原位回流及再沉积的PVD设备及其控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120945327B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511454480.3，技术领域涉及：C23C14/22；该发明授权可实现Cu原位回流及再沉积的PVD设备及其控制方法是由王保;余婷;贺忻;王慧锋;徐钧设计研发完成，并于2025-10-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本可实现Cu原位回流及再沉积的PVD设备及其控制方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种可实现Cu原位回流及再沉积的PVD设备及其控制方法，PVD设备包括第一中转腔和第二中转腔，第一中转腔的两侧分别依次布置集成腔、预清洗腔、再处理工艺腔和原位回流复合处理腔，第二中转腔的四周设置有若干工艺腔；所述集成腔中设置有第一加热模块、腔体水冷通道、晶圆支撑架和升降旋转机构，集成腔中设置有三处晶圆放置位；升降旋转机构可带着晶圆支撑架在三处晶圆放置位之间移动；所述原位回流复合处理腔包括冷却底盘、支撑机构和第二加热模块，支撑机构用以支撑晶圆并具有旋转及上下移动功能，且在上下移动方向配备三处晶圆放置位。本发明能够解决铜互连薄膜沉积高深宽比结构中的微孔洞和接缝缺陷、侧壁覆盖不均等问题。

本发明授权可实现Cu原位回流及再沉积的PVD设备及其控制方法在权利要求书中公布了：1.一种可实现Cu原位回流及再沉积的PVD设备，其特征在于，包括第一中转腔5和第二中转腔5’，所述第一中转腔5的两侧分别依次布置集成腔11’、预清洗腔22’、再处理工艺腔33’和原位回流复合处理腔66’，所述第二中转腔5’的四周设置有若干工艺腔44’，所述原位回流复合处理腔66’位于第一中转腔5和第二中转腔5’之间；所述集成腔中设置有第一加热模块14、腔体水冷通道15、晶圆支撑架8和升降旋转机构16，所述集成腔中设置有三处晶圆放置位，分别为第一加热位19、第一传片位20、第一冷却位21；所述升降旋转机构16可带着晶圆支撑架8在三处晶圆放置位之间移动； 所述原位回流复合处理腔66’包括冷却底盘22、支撑机构24和第二加热模块25，所述支撑机构24用以支撑晶圆9并具有旋转及上下移动功能，且在上下移动方向配备有三处晶圆放置位，分别为第二加热位27、第二传片位28和第二冷却位29。

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