理音株式会社坂东和奈获国家专利权
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龙图腾网获悉理音株式会社申请的专利颗粒测量装置和颗粒测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114424044B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180005328.0，技术领域涉及：G01N15/0227；该发明授权颗粒测量装置和颗粒测量方法是由坂东和奈;近藤郁;田渊拓哉;近藤聪太设计研发完成，并于2021-03-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本颗粒测量装置和颗粒测量方法在说明书摘要公布了：将照射光照射于流路，在向试样的流动方向虚拟延长后的位置，对从通过形成于规定区间内的检测区域的试样中所含的颗粒发出的散射光进行聚光并以规定的帧率进行拍摄。在此基础上，基于多个帧图像来计算出通过布朗运动而产生的颗粒的与流动方向垂直的方向的移动量。进而，为了对散焦位置处的因倍率而产生的图像上的移动量的误差进行校正，使用预先求出的校正值来校正该移动量，确定颗粒的粒径。
本发明授权颗粒测量装置和颗粒测量方法在权利要求书中公布了：1.一种颗粒测量装置，其特征在于，具备： 流动池，在其内部具有流路； 光源，射出照射光； 照射光学系统，向在所述流路中流动的试样照射所述照射光； 聚光光学系统，在使所述流路的规定区间向所述试样的流动方向虚拟延长后的位置，对从通过检测区域的所述试样中所含的颗粒发出的散射光进行聚光，其中，所述检测区域是利用所述照射光的照射而形成于所述规定区间内的区域； 拍摄部，以规定的帧率对聚光后的所述散射光进行拍摄； 移动量计算部，基于拍摄到的多个帧图像来计算出通过布朗运动而产生的所述颗粒的二维方向的移动量； 移动量校正部，使用校正值来对计算出的所述移动量进行校正，其中，所述校正值是为了对所述聚光光学系统中产生的倍率的误差进行校正而基于散焦位置和所述帧图像上的位置而预先计算出的值；以及 粒径确定部，基于校正后的所述移动量来确定所述颗粒的粒径。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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