西默有限公司赵中全获国家专利权
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龙图腾网获悉西默有限公司申请的专利用于改进DUV激光对准的量测获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114846702B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080089555.1，技术领域涉及：H01S3/225；该发明授权用于改进DUV激光对准的量测是由赵中全设计研发完成，并于2020-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于改进DUV激光对准的量测在说明书摘要公布了：光源设备包括气体放电级、感测设备、光学布置、调整设备和控制设备。气体放电级包括光学放大器和一组光学元件，光学放大器包括被配置为保持输出光束的气体放电介质的腔室，光学元件被配置为在光学放大器周围形成光学谐振器。光学布置被配置为将来自气体放电级内的多个不同物平面的光成像到感测设备上。调整设备与气体放电级内的一个或多个光学组件物理通信，并且被配置为修改光学组件的至少一个几何方面。控制设备与感测设备和调整设备通信，基于来自感测设备的输出，向调整设备提供信号。
本发明授权用于改进DUV激光对准的量测在权利要求书中公布了：1.一种光源设备，包括： 气体放电级，包括： 光学放大器，包括被配置为保持气体放电介质的腔室，所述气体放电介质输出光束；以及 一组光学元件，被配置为在所述光学放大器周围形成光学谐振器； 感测设备； 光学布置，被配置为将来自所述气体放电级内的多个不同物平面的光成像到所述感测设备上，其中所述光学布置包括一个或多个聚焦光学元件，所述一个或多个聚焦光学元件能够沿着所述光束的光学路径被调整，以由此选择哪个物平面被成像到所述感测设备上； 调整设备，所述调整设备与所述气体放电级内的一个或多个光学组件物理通信，并且被配置为修改所述光学组件的至少一个几何方面；以及 控制设备，与所述感测设备和所述调整设备通信，所述控制设备被配置为：基于来自所述感测设备的输出，向所述调整设备提供信号。
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