华天慧创科技(西安)有限公司李欣获国家专利权
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龙图腾网获悉华天慧创科技(西安)有限公司申请的专利一种镜头遮光膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119861478B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-01-06发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510095762.2，技术领域涉及：G02B23/24；该发明授权一种镜头遮光膜及其制备方法和应用是由李欣;高健;杨裕龙;朱龙;袁万利设计研发完成，并于2025-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种镜头遮光膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于内窥镜镜头镀膜技术领域，具体涉及一种镜头遮光膜及其制备方法和应用。本发明提供的镜头遮光膜，包括依次层叠设置的吸光层、反射层和绝缘层，所述吸光层与所述镜头基体接触；所述吸光层的材料包括铬和或钛；所述反射层的材料包括铝和或银；所述绝缘层的材料包括二氧化硅和或氮化硅。本发明通过吸光层和反射层的协同作用，显著提高遮光膜的遮光性能；同时，本发明提供的镜头遮光膜均匀性好，从而保证镜头的光学性能不受影响。综上，本发明提供的镜头遮光膜镀层致密、均匀，可达到OD2以上，可见光范围内的平均透过率具有小于0.5％的遮光效果。
本发明授权一种镜头遮光膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种镜头遮光膜在内窥镜镜头遮光膜中的应用，其特征在于，所述镜头遮光膜包括依次层叠设置的吸光层、反射层和绝缘层，所述吸光层与镜头基体接触；所述吸光层的材料包括铬和或钛；所述反射层的材料包括铝和或银；所述绝缘层的材料包括二氧化硅和或氮化硅； 所述的镜头遮光膜的制备方法包括以下步骤： 采用物理气相沉积的方法，在所述镜头的侧面依次沉积吸光层、反射层和绝缘层，在所述镜头的侧面得到所述镜头遮光膜。
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